[发明专利]成膜装置以及电子器件的制造装置

说明书

本发明提供能够提高成膜精度的成膜装置以及电子器件的制造装置。成膜装置是具有真空容器(21)的成膜装置(11)，其特征在于，真空容器(21)具备：多个真空容器部(第1真空容器部(211)和第2真空容器部(212))；以及设置在多个真空容器部之间(第1真空容器部(211)与第2真空容器部(212)之间)的可伸缩构件(213)。

技术领域

本发明涉及用于隔着掩模在基板上对成膜材料进行成膜的成膜装置以及包括该成膜装置的电子器件的制造装置。

背景技术

有机EL显示装置(有机EL显示器)的应用领域不仅涉及智能手机、电视机、汽车用显示器，还广泛涉及VR-HMD(Virtual Reality Head Mount Display：虚拟实境头戴式显示器)等。在这些装置中，期望高精度地形成像素图案。特别是VR HMD中使用的显示器为了防止用户的眩晕而要求以更高的精度形成像素图案。

在有机EL显示装置(有机EL显示器)的制造中，在形成构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件；OLED)时，通过将从成膜装置的成膜源放出的成膜材料隔着形成有像素图案的掩模在基板上成膜，由此形成有机物层、金属层。

在这样的成膜装置中，成膜工序在维持真空气氛或氮气等非活性气体气氛的真空容器内进行。例如，在上方成膜方式(Depo-up)的成膜装置中，成膜源设置于真空容器的下部，基板及相对于基板定位的掩模配置于真空容器的上部。并且，从成膜源放出的成膜材料经由形成于掩模的开口而被蒸镀到基板的下表面，由此进行成膜。

在具有这样的成膜材料的飞散路径的成膜装置中，对成膜精度造成影响的主要原因之一是飞散的成膜材料通过掩模的开口而向基板入射的角度。例如，若增大成膜材料从成膜源通过掩模的开口而向基板入射的角度，即，若与基板的成膜面接近大致垂直地入射，则能够提高成膜精度。另一方面，若成膜材料向基板的入射角小，则相应地成膜精度降低。

作为增大成膜材料向基板的成膜面入射的角度的一种方法，考虑延长成膜源与基板之间的距离。

但是，若延长成膜源与基板之间的距离，则在上方成膜方式的装置的情况下，成膜装置的真空容器的高度相应地变高。若提高真空容器的高度，则设置于真空容器的上部侧的基板、掩模、以及对它们进行支承的各种构件容易受到来自真空泵、地面的振动的影响。这成为使基板相对于掩模的对准精度降低的主要原因，另外，在成膜工序的进行中，基板与掩模之间的位置关系变得不稳定，结果可能成为使成膜精度降低的主要原因。

专利文献1：日本特开2012-033468号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明的目的在于提供一种能够提高成膜精度的成膜装置以及包括该成膜装置的电子器件的制造装置。

用于解决课题的技术方案

本发明为了解决上述课题而采用了以下的技术方案。

即，本发明的成膜装置是具有真空容器的成膜装置，其特征在于，

所述真空容器具备多个真空容器部和设置于所述多个真空容器部之间的可伸缩构件。

另外，本发明的电子器件的制造装置的特征在于，

该电子器件的制造装置具备：

所述成膜装置；

用于收纳掩模的掩模储存装置；以及

用于搬送基板或掩模的搬送装置。

发明的效果

根据本发明，能够提高成膜精度。

附图说明