[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种成膜装置，是用于隔着掩模在基板上进行成膜的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置包括：

真空容器；

基板吸附部件，设置在所述真空容器内，具有以基板的成膜面朝向铅垂方向的下方的方式吸附所述基板的吸附面；

掩模支承单元，设置在所述真空容器内，用于支承掩模；

成膜源，设置在所述真空容器内，放出成膜材料；以及

磁悬浮部件，利用磁力使所述基板吸附部件悬浮，且利用磁力使所述基板吸附部件在沿着所述吸附面的第1方向上移动，

所述磁悬浮部件利用磁力使所述基板吸附部件在与所述第1方向交叉且沿着所述吸附面的第2方向上以及在相对于所述吸附面的垂直方向上移动。

2.一种成膜装置，是用于隔着掩模在基板上进行成膜的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置包括：

真空容器；

基板吸附部件，设置在所述真空容器内，具有以基板的成膜面朝向铅垂方向的下方的方式吸附所述基板的吸附面；

掩模支承单元，设置在所述真空容器内，用于支承掩模；

成膜源，设置在所述真空容器内，放出成膜材料；以及

磁悬浮部件，利用磁力使所述基板吸附部件悬浮，且利用磁力使所述基板吸附部件在沿着所述吸附面的第1方向上移动，

所述磁悬浮部件利用磁力使所述基板吸附部件以所述第1方向、与所述第1方向交叉且沿着所述吸附面的第2方向或相对于所述吸附面的垂直方向中的任一方向为轴旋转。

3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，

所述磁悬浮部件具有：

线性马达，用于产生使所述基板吸附部件在所述第1方向上移动的驱动力；以及

磁力产生部，提供使所述基板吸附部件悬浮的悬浮力。

4.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置还具备检测所述基板吸附部件的位置的位置检测部件。

5.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，

所述基板吸附部件是利用静电力吸附基板的静电吸盘部。

6.一种成膜装置，是用于隔着掩模在基板上进行成膜的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置包括：

真空容器；

基板吸附部件，设置在所述真空容器内，具有以基板的成膜面朝向铅垂方向的下方的方式吸附所述基板的吸附面；

掩模支承单元，设置在所述真空容器内，用于支承掩模；

成膜源，设置在所述真空容器内，放出成膜材料；以及

磁悬浮部件，利用磁力使所述基板吸附部件悬浮，且利用磁力使所述基板吸附部件在沿着所述吸附面的第1方向上移动，

该成膜装置还具备掩模支承单元移动机构，该掩模支承单元移动机构用于使所述掩模支承单元移动，以使所述掩模支承单元相对于所述吸附面在垂直方向上接近或远离，

所述掩模支承单元移动机构包括驱动用马达和用于将所述驱动用马达的旋转驱动力变换为直线驱动力并向所述掩模支承单元传递的驱动力传递机构。

7.根据权利要求6所述的成膜装置，其特征在于，

所述掩模支承单元移动机构搭载在用于使所述掩模支承单元在与所述基板吸附部件的吸附面平行的面内移动的载置台机构上。

8.根据权利要求7所述的成膜装置，其特征在于，

所述掩模支承单元移动机构以及所述载置台机构与所述掩模支承单元隔着所述基板吸附部件地设置于所述掩模支承单元的相反侧、且所述真空容器的外部大气侧。

9.一种成膜方法，其特征在于，

该成膜方法具有使用权利要求1～8中的任一项所述的成膜装置隔着掩模在基板上进行成膜的工序。

10.一种电子器件的制造方法，其特征在于，

该电子器件的制造方法具有使用权利要求1～8中的任一项所述的成膜装置隔着掩模在基板上进行成膜的工序。