[发明专利]气体喷淋头的清洗方法在审
| 申请号： | 201911166034.7 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN112831793A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 姜勇;王家毅 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/19 | 分类号： | C23G1/19;C23G1/08;C23C22/73;C23G1/24 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气体 喷淋 清洗 方法 | ||
1.一种沉积有沉积物的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述沉积物包括镓(Ga)、镁(Mg)、铝(Al)或铟(In)中至少一种元素，所述清洗方法包括：
将气体喷淋头放置在氢氧化钠碱性溶液中清洗；
将气体喷淋头放置在硝酸和氢氟酸的酸性混合液中清洗；
将气体喷淋头放置在硝酸酸性溶液中清洗；
其中，在进行碱性溶液清洗、酸性混合液清洗或酸性溶液清洗的步骤之前或之后进行去离子水清洗。
2.如权利要求1所述的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于：所述氢氧化钠的浓度为10％-20％。
3.如权利要求1所述的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于：所述去离子水清洗包括采用超声波震荡去离子水清洗、流动去离子水清洗或高压喷淋去离子水清洗中的至少一种。
4.如权利要求3所述的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于：高压喷淋去离子水清洗过程中的压强范围为1Mpa-50Mpa。
5.如权利要求1所述的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于：在去离子水清洗过程之后，用氮气吹干所述气体喷淋头。
6.如权利要求1所述的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于：在清洗完成之后，将气体喷淋头放置在100℃-200℃高温烘箱中烘烤。
7.如权利要求1所述的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于：所述沉积物包括氮化镓(GaN)、氧化镁(MgO)、氧化铝(Al2O3)或氮化镓铟(InGaN)中的至少一种化合物。
8.如权利要求1所述的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于：所述清洗方法在温度20℃-25℃环境下进行。
9.如权利要求1所述的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于：所述气体喷淋头由316L不锈钢材料制成。
10.一种沉积有沉积物的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述沉积物包括镓(Ga)、镁(Mg)、铝(Al)或铟(In)中至少一种元素，所述清洗方法包括：
将气体喷淋头放置在碱性脱脂液中清洗；
将气体喷淋头放置在氢氧化钠碱性溶液中清洗；
将气体喷淋头放置在硝酸和氢氟酸的酸性混合液中清洗；
将气体喷淋头放置在硝酸酸性溶液中清洗；
其中，在进行碱性脱脂液清洗、碱性溶液清洗、酸性混合液清洗或酸性溶液清洗的步骤之前或之后进行去离子水清洗。
11.如权利要求10所述的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于：将气体喷淋头放置在碱性脱脂液中清洗完成后还采用漂洗水对气体喷淋头进行漂洗，去除在采用碱性脱脂液清洗过程中形成的脱脂剂。
12.如权利要求10所述的气体喷淋头的清洗方法，其特征在于：所述清洗方法还包括如权利要求2至权利要求9任一项所述特征。
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