[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括基底，其特征在于，所述基底上设有彩膜层，所述彩膜层包括多个呈阵列布置的彩色滤光膜、以及设于各所述彩色滤光膜之间的黑色矩阵；

任意相邻的两所述彩色滤光膜之间均设有流平凹槽，且各所述流平凹槽开设在所述黑色矩阵上，各所述彩色滤光膜远离所述基底一侧的表面为平面，所述黑色矩阵包括一疏液子层，所述疏液子层位于所述黑色矩阵内远离所述基底的一侧。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色滤光膜的水平高度大于等于所述黑色矩阵的水平高度。

3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵包括遮光子层，所述遮光子层设于所述基底上，所述疏液子层设于所述遮光子层上。

4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述流平凹槽内设有冗余色阻层，所述冗余色阻层的水平高度小于等于所述彩色滤光膜的水平高度。

5.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一基底；

在所述基底上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵包括多个呈阵列布置的通光孔，任意相邻的两所述通光孔之间均设有流平凹槽，且各所述流平凹槽开设在所述黑色矩阵上；

对所述黑色矩阵疏液化，使所述黑色矩阵远离所述基底一侧的部分疏液化形成疏液子层；

在各所述通光孔内形成彩色滤光膜，各所述彩色滤光膜远离所述基底一侧的表面为平面。

6.如权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵及所述黑色矩阵上的多个通光孔和多个流平凹槽通光HTM光罩曝光显影一体成型。

7.如权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述疏液化步骤包括：

采用紫外光照射所述黑色矩阵，使所述黑色矩阵远离所述基底一侧的部分疏液化形成疏液子层。

8.如权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述紫外光的波长为160nm～200nm，所述紫外光照射的时间为1秒～5秒。

9.如权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述在各所述通光孔内形成彩色滤光膜，各所述彩色滤光膜远离所述基底一侧的表面为平面包括：

在所述黑色矩阵的各所述通光孔处分别填充色阻材料，其中，各所述通光孔处的色阻材料搭接在所述黑色矩阵的疏液子层上；

对所述色阻材料加热，使所述疏液子层上搭接的色阻材料流入所述流平凹槽内，以在各所述通光孔内形成表面为平面的彩色滤光膜。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板。