[发明专利]曝光装置用光源、曝光装置和抗蚀剂的曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置用光源，具备照射单波长光的多个光源组件、以及保持多个所述光源组件的光源组件支架，

从多个所述光源组件照射的所述单波长光至少有2种，

照射一种所述单波长光的所述光源组件配置于所述光源组件支架的中心侧，

照射另一种所述单波长光的所述光源组件与照射一种所述单波长光的所述光源组件相反地配置于所述光源组件支架的外周侧，

在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间，照射的光的照射强度变化。

2.一种曝光装置用光源，具备照射单波长光的多个光源组件、以及保持多个所述光源组件的光源组件支架，

从多个所述光源组件照射的所述单波长光至少有2种，

照射一种所述单波长光的所述光源组件配置于所述光源组件支架的中心侧，

照射另一种所述单波长光的所述光源组件与照射一种所述单波长光的所述光源组件相反地配置于所述光源组件支架的外周侧，

在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间，各所述单波长光的照射强度的平衡变化。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置用光源，其中，

一次连续曝光期间至少被划分为第一曝光时间、第二曝光时间和第三曝光时间。

4.根据权利要求2所述的曝光装置用光源，其中，

对照射各所述单波长光的各所述光源组件的数量以及来自各所述光源组件的光的照射强度当中的至少一者进行调整，来实施各所述单波长光的照射强度的平衡调整。

5.根据权利要求1或2所述的曝光装置用光源，其中，

各所述光源组件具有判别部件，所述判别部件用于进行正品判定。

6.根据权利要求5所述的曝光装置用光源，其中，

所述判别部件是白炽灯。

7.根据权利要求1或2所述的曝光装置用光源，其中，

从多个所述光源组件照射的光的照射强度至少有2种。

8.一种曝光装置，具备权利要求1或2所述的曝光装置用光源。

9.一种抗蚀剂的曝光方法，其特征在于，

使用曝光装置用光源使光的照射强度在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间变化来进行所述抗蚀剂的曝光，

所述曝光装置用光源具备照射单波长光的多个光源组件，

从多个所述光源组件照射的所述单波长光至少有2种，

照射进行曝光的抗蚀剂的受光灵敏度低的一方的所述单波长光的低灵敏度的所述光源组件配置于对多个所述光源组件进行保持的光源组件支架的中心侧或外周侧，

照射所述受光灵敏度高的另一方的所述单波长光的高灵敏度的所述光源组件与低灵敏度的所述光源组件相反地配置于所述光源组件支架的外周侧或中心侧。

10.一种抗蚀剂的曝光方法，其特征在于，

使用曝光装置用光源使各单波长光的照射强度的平衡在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间变化来进行所述抗蚀剂的曝光，

所述曝光装置用光源具备照射所述单波长光的多个光源组件，

从多个所述光源组件照射的所述单波长光至少有2种，

照射进行曝光的抗蚀剂的受光灵敏度低的一方的所述单波长光的低灵敏度的所述光源组件配置于对多个所述光源组件进行保持的光源组件支架的中心侧或外周侧，

照射所述受光灵敏度高的另一方的所述单波长光的高灵敏度的所述光源组件与低灵敏度的所述光源组件相反地配置于所述光源组件支架的外周侧或中心侧。