[发明专利]掩膜版及滤光片

说明书

一种掩膜版及滤光片，其中，所述掩膜版包括：基板；吸收层，位于所述基板上；多个多边形开口，位于所述吸收层内且暴露出所述基板，所述多边形开口具有多个角部，相邻所述多边形开口的其中一个所述角部相对设置。利用本发明实施例提供的掩膜版形成的滤光片上的间隔柱，可以降低相邻间隔柱之间的相连高度，提高间隔柱尺寸的测量准确性。

技术领域

本发明涉及液晶显示装置领域，特别是涉及一种掩膜版及滤光片。

背景技术

随着科技的进步和发展，液晶显示器得到了广泛的应用，其中，薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)由于具有低的功耗、优异的画面以及较高的生产良率等性能，目前逐渐占据了显示领域。现有的液晶显示器一般包括：TFT阵列基板、滤光片、位于TFT阵列基板和滤光片之间的液晶层。其中，滤光片上形成有遮光层和滤光层。为了使液晶中的液晶可以很好的固定在一定的空间内，避免液晶的流动造成显示不均匀的问题，在TFT阵列基板和滤光片之间形成多个间隔柱(Photo Spacer，简称PS)。

现有技术中采用光阻制作间隔柱，并且为了避免由于液晶显示器高温造成各个间隔柱延伸变形的不均匀，现有技术中采用在滤光片上制作有段差的主间隔柱和副间隔柱。所谓主间隔柱和副间隔柱之间具有段差是指：副间隔柱的上表面低于主间隔柱的上表面。

现有技术中制作具有段差的主间隔柱和副间隔柱的常用方法包括半色调掩膜法(Half-tone Mask，简称HTM)。然而，随着液晶显示器技术的发展，间隔柱之间的距离要求越来越小，在使用半色调掩膜法形成间隔柱时，容易导致相邻的两颗间隔柱下底甚至上底有部分相连，当相邻的间隔柱之间的相连高度过高时，会直接影响间隔柱的柱高和上下底的尺寸得不到准确的测量值，从而给间隔柱的特性管控带来不利影响。

发明内容

本发明解决的技术问题是提供一种掩膜版及滤光片，可以降低所形成的相邻间隔柱之间的相连高度，有利于提高间隔柱测量的准确性。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种掩膜版，包括：基板；吸收层，位于所述基板上；多个多边形开口，位于所述吸收层内且暴露出所述基板，所述多边形开口具有多个角部，相邻所述多边形开口的其中一个所述角部相对设置。

可选的，相对设置的所述角部之间部分重叠，重叠的所述角部的顶点之间的距离小于等于所述多边形开口尺寸的14％。

可选的，相对设置的所述角部之间具有间隔。

可选的，所述多边形开口的形状为正多边形。

可选的，所述多边形开口的尺寸为所述为所述正多边形的中心至所述正多边形任意一条边的垂直距离。

可选的，相邻所述多边形开口的中心之间的距离为20～80微米。

可选的，还包括：半透膜层，所述半透膜层位于所述多边形开口上。

可选的，所述半透膜层的材质包括铬或铬的化合物。

可选的，所述基板的材质包括石英玻璃或氟化钙。

可选的，所述吸收层的材质为铬，或所述吸收层的材质为由硅化钼、硅酸锆及氮化硅构成的无机材料。

本发明还提供一种滤光片，其特征在于，包括：基板；黑色矩阵，位于所述基板上，所述黑色矩阵中具有露出所述基板表面的多个开口区域；色素层，位于所述多个开口区域内；间隔柱，利用如权利要求1至10任一项所述掩膜版制作形成，位于相邻所述色素层之间的所述黑色矩阵上，且相邻所述间隔柱的相连高度小于等于40％。

与现有技术相比，本发明实施例的技术方案具有以下有益效果：