[发明专利]一种基于可溶解的保护膜制备晶体二极管的方法在审
申请号: | 201911180927.7 | 申请日: | 2019-11-27 |
公开(公告)号: | CN110970329A | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 邓月忠;温国豪;褚宏深;宋旭官;黄正信 | 申请(专利权)人: | 丽智电子(昆山)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683;H01L21/78 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215300 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 可溶解 保护膜 制备 晶体二极管 方法 | ||
本发明公开了一种基于可溶解的保护膜制备晶体二极管的方法,包括以下步骤:(1)基板处理:包括在基板的正面和背面的对应区域进行刻蚀,形成刻蚀区其中,所述的基板包括基板A和基板B;(2)贴附保护膜:将步骤(1)所述获得的若干个成对所述的基板A和所述的基板B、按矩阵排列形式放置在保护膜上,所述基板的背面贴附在保护膜上;(3)制备二极管半成品;(4)去除保护膜:采用有机溶剂溶解所述的保护膜;(5)制备二极管成品:将所述封装层进行切割成粒。本发明通过在基板背面贴有保护膜的设计可完全阻隔封装胶渗透到基板背电极的问题,降低了尺寸对精度的限制,有利于所制作的晶体二极管相小型化发展。
技术领域
本发明属于晶体二极管领域,具体涉及一种基于可溶解的保护膜制备晶体二极管的方法。
背景技术
现有传统的二极管制作工艺中,所需的玻璃纤维基板通常是通过蚀刻、钻孔、塞孔、研磨的方法制作。随着电子元器件的小型化发展,受限于现有工艺所达到的精度,导致所制作的二极管的整理良率降低。
发明内容
针对上述问题,本发明提出一种基于可溶解的保护膜制备晶体二极管的方法。
实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现:
一种基于可溶解的保护膜制备晶体二极管的方法,包括以下步骤:
(1)基板处理:包括在基板的正面和背面的对应区域进行刻蚀,形成刻蚀区,之后在非刻蚀的区域钻穿透基板的导通孔并镀金属膜;其中,所述的基板包括基板A和基板B;
(2)贴附保护膜:将步骤(1)所述获得的若干个成对所述的基板A和所述的基板B、按矩阵排列形式放置在保护膜上,所述基板的背面贴附在保护膜上;
(3)制备二极管半成品:将芯片设置在所述的基板A上的刻蚀区,之后用导线连接所述的芯片和相匹配的所述的基板B,制作包覆芯片和导线的封装层;
(4)去除保护膜:采用有机溶剂溶解所述的保护膜;
(5)制备二极管成品:将所述封装层进行切割成粒,每个颗粒中包括一条导线及其所述导线所连接的所述基板A和所述基板B的部分。
作为本发明的进一步改进,所述的保护膜为聚乙烯保护膜。
作为本发明的进一步改进,步骤(3)中所制备的封装层为环氧树脂保护层,包括完成导线连接的半成品放入模压机的模具中,形成覆盖基板上方的环氧树脂保护层。
作为本发明的进一步改进,所制作的封装层还部分包覆所述基板A和所述基板B,所述基板A和所述基板B位于正面一侧的。
作为本发明的进一步改进,所述基板A和所述基板B的高度相同和不同。
作为本发明的进一步改进,步骤(2)中相邻两对所述基板A和所述基板B之间距离为0.10-0.20cm。
作为本发明的进一步改进,所述的步骤(1)采用电镀法将所述导通孔的内孔壁和上下表面的外圈连续的区域电镀铜膜。
作为本发明的进一步改进,所述基板A和所述基板B为长条形,所述基板A或所述基板B的宽度等于所制作的二极管中所包括的基板的宽度,所述刻蚀区沿着所述基板A或所述基板B的延长方向设置。
作为本发明的进一步改进,步骤(3)中所述芯片通过银胶固定在所述基板A的刻蚀区。
作为本发明的进一步改进,实施的步骤(4)还包括采用流动液对基板的背面进行刷洗。
本发明的有益效果:
1、本发明通过在基板背面贴有保护膜的设计可完全阻隔封装胶渗透到基板背电极的问题,降低了尺寸对精度的限制,有利于所制作的晶体二极管相小型化发展。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于丽智电子(昆山)有限公司,未经丽智电子(昆山)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911180927.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造