[发明专利]翻转装置和真空镀膜设备

说明书

本发明提供一种翻转装置和真空镀膜设备，该翻转装置包括可翻转的翻转架、相对设置在该翻转架上的两个第一夹紧机构、分别与两个第一夹紧机构连接的两个载台组件以及分别设置在两个载台组件上的两个第二夹紧机构，其中，各载台组件用于承载托盘；两个第一夹紧机构用于分别向两个载台组件的四周边缘处施加压力，以将置于两个载台组件之间的两个托盘夹紧；两个第二夹紧机构用于分别向置于两个载台组件上的两个托盘的指定位置施加压力，该指定位置为与托盘上的基片相对应的位置。本发明提供的翻转装置，其可以避免基片在翻转过程中表面受损或掉落，提高翻转夹紧的可靠性和稳定性，从而可以提高生产效率和产品质量。

技术领域

本发明涉及半导体加工技术领域，具体地，涉及一种翻转装置和真空镀膜设备。

背景技术

在稀土磁性材料生产领域，需要用真空镀膜生产线对钕铁硼基片的表面进行沉积处理。工艺时，将钕铁硼基片均匀放置在托盘上，并使托盘依次进入生产线的工艺腔室进行镀膜，根据工艺需求，在完成基片的一面镀膜后，需要对基片进行翻转，以方便对基片的另一面进行镀膜。为了实现高效自动化生产，就需要在工艺腔室以外设置翻转装置，该翻转装置通过将夹持固定两个托盘，并使之翻转，来实现将这两个托盘之间的基片翻面。

但是，现有的翻转机构在翻转过程中经常出现基片表面受损，甚至出现基片掉落的情况，严重影响生产节拍和产品质量。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种翻转装置和真空镀膜设备，其可以避免基片在翻转过程中表面受损或掉落，提高翻转夹紧的可靠性和稳定性，从而可以提高生产效率和产品质量。

为实现上述目的，本发明提供了一种翻转装置，所述翻转装置包括可翻转的翻转架、相对设置在所述翻转架上的两个第一夹紧机构、分别与两个所述第一夹紧机构连接的两个载台组件以及分别设置在两个所述载台组件上的两个第二夹紧机构，其中，

各所述载台组件用于承载托盘；

两个所述第一夹紧机构用于分别向两个所述载台组件的四周边缘处施加压力，以将置于两个所述载台组件之间的两个托盘夹紧；

两个所述第二夹紧机构用于分别向置于两个所述载台组件上的两个所述托盘的指定位置施加压力，所述指定位置为与所述托盘上的基片相对应的位置。

可选的，各所述载台组件均包括：

载台；

传输机构，设置在所述载台上，用于运送所述托盘。

可选的，所述传输机构包括传送带机构或者辊轴机构。

可选的，各所述第一夹紧机构均包括第一直线驱动源，所述第一直线驱动源位于所述载台组件的远离承载所述托盘的承载面一侧，并且所述直线驱动源的驱动轴垂直于所述承载面，且与所述载台组件固定连接。

可选的，各所述第二夹紧机构包括：

压紧板，所述压紧板的数量与所述托盘上的基片的数量相同，且一一对应地设置，并且各所述压紧板均位于所述载台组件的承载所述托盘的承载面所在一侧，且与所述承载面相互平行；

第二直线驱动源，用于驱动各所述压紧板沿垂直于所述承载面的方向移动。

可选的，各所述第二夹紧机构还包括高度调节组件，用于调节所述压紧板在初始位置时与所述托盘之间的间距。

可选的，所述高度调节组件包括：

固定板，与所述第二直线驱动源的驱动轴固定连接，且在所述固定板中设置有第一螺纹孔和第二螺纹孔，所述第一螺纹孔和第二螺纹孔的轴线均与所述压紧板相互垂直；所述第二螺纹孔为多个，且相对于所述第一螺纹孔的轴线对称分布；

压紧螺栓，与所述第一螺纹孔相配合，且所述压紧螺栓的一端与所述压紧板相抵；