[发明专利]连续式真空镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201911181710.8 申请日: 2019-11-27
公开(公告)号: CN110699659B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 金晨;杨卓;李建银;张澄 申请(专利权)人: 北京七星华创集成电路装备有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;王婷
地址: 101312 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 连续 真空镀膜 设备
【权利要求书】:

1.一种连续式真空镀膜设备,其特征在于,包括依次设置的第一升降台、镀膜装置以及第二升降台,

所述第一升降台和所述第二升降台均能够在上工位和下工位之间升降,且在所述第一升降台和所述第二升降台上均设置有用于传输托盘的第一传输装置和第二传输装置;

回传机构,用于在所述第一升降台和所述第二升降台均位于所述下工位时在二者之间传输所述托盘;

所述连续式真空镀膜设备还包括翻转装置,且所述翻转装置、所述第一升降台、所述镀膜装置以及所述第二升降台依次设置;所述翻转装置用于通过翻转两个托盘,来使两个所述托盘之间的基片的正面或背面朝上,所述翻转装置包括可翻转的翻转架、相对设置在所述翻转架上的两个第一夹紧机构、分别与两个所述第一夹紧机构连接的两个载台组件以及分别设置在两个所述载台组件上的两个第二夹紧机构,其中,

两个所述第一夹紧机构用于分别向两个所述载台组件施加压力,以将置于两个所述载台组件之间的两个所述托盘夹紧;

两个所述第二夹紧机构用于分别向置于两个所述载台组件上的两个所述托盘的指定位置施加压力,所述指定位置为与所述托盘上的基片相对应的位置;各所述第二夹紧机构包括:

压紧板,所述压紧板的数量与所述托盘上的基片的数量相同,且一一对应地设置,并且各所述压紧板均位于所述载台组件的承载所述托盘的承载面所在一侧,且与所述承载面相互平行;

第二直线驱动源,用于驱动各所述压紧板沿垂直于所述承载面的方向移动;

高度调节组件,用于调节所述压紧板在初始位置时与所述托盘之间的间距。

2.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜设备,其特征在于,

所述第一升降台包括:第一托盘架和第一升降机构,在所述第一托盘架上设置有所述第一传输装置,且所述第一升降机构用于驱动所述第一托盘架在上工位和下工位之间升降;

所述第二升降台包括第二托盘架和第一升降机构,在所述第二托盘架上设置有所述第二传输装置,且所述第一升降机构用于驱动所述第二托盘架在上工位和下工位之间升降。

3.根据权利要求2所述的连续式真空镀膜设备,其特征在于,所述回传机构包括用于传输所述托盘的第三传输装置,所述第三传输装置设置在所述镀膜装置的下方。

4.根据权利要求3所述的连续式真空镀膜设备,其特征在于,所述第一传输装置、所述第二传输装置以及第三传输装置均包括传送带机构或者辊轴机构。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的连续式真空镀膜设备,其特征在于,在所述翻转装置上设置有用于传输所述托盘的第四传输装置,在所述第一升降台位于所述上工位时,所述第四传输装置与所述第一传输装置之间能够传递所述托盘。

6.根据权利要求5所述的连续式真空镀膜设备,其特征在于,

各所述载台组件上均设置有所述第四传输装置;

两个所述第一夹紧机构用于分别向两个所述载台组件的四周边缘处施加压力。

7.根据权利要求6所述的连续式真空镀膜设备,其特征在于,各所述第一夹紧机构包括第一直线驱动源,所述第一直线驱动源位于所述载台组件的远离承载所述托盘的承载面一侧,并且所述直线驱动源的驱动轴垂直于所述承载面,且与所述载台组件固定连接。

8.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜设备,其特征在于,所述镀膜装置包括按生产顺序依次设置的进样室、清洗室、镀膜室、缓冲室、降温室和出样室,以及生产线,所述生产线用以按生产顺序连续将所述托盘传输至相应的腔室中。

9.根据权利要求8所述的连续式真空镀膜设备,其特征在于,所述镀膜室设置有设定数量的可旋转的柱状阴极。

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