[发明专利]连续式真空镀膜设备

说明书

本发明提供一种连续式真空镀膜设备，该连续式真空镀膜设备包括依次设置的第一升降台、镀膜装置以及第二升降台，第一升降台和第二升降台均能够在上工位和下工位之间升降，且在第一升降台和第二升降台上均设置有用于传输托盘的第一传输装置和第二传输装置；回传机构，用于在第一升降台和第二升降台均位于下工位时在二者之间传输托盘。本发明提供的连续式真空镀膜设备，其可以在需要基片进行多次镀膜时自动对基片进行连续传送，从而不仅可以实现基片的连续多次镀膜，而且可以降低人工成本，提高生产效率。

技术领域

本发明涉及半导体加工技术领域，具体地，涉及一种连续式真空镀膜设备。

背景技术

在稀土磁性材料生产领域，需要用真空镀膜生产线对钕铁硼基片的表面进行沉积处理。工艺时，将钕铁硼基片均匀放置在托盘上，并使托盘依次进入生产线的工艺腔室进行镀膜。现有的连续式真空镀膜设备主要包括进料台、进样室、清洗室、镀膜室、缓冲室、降温室、出样室和出料台等。

在实际生产过程中，钕铁硼基片均匀摆放在托盘上，然后通过人工方式把托盘放置在进料台上，然后通过进料台上的传送装置进入进样室，然后依次进入各个腔室进行相应的工艺，最后将将托盘传送至出料台，并通过人工进行下料。

但是，由于上述设备的上料和下料均需要人工参与，尤其是基片需要多次镀膜的情况，人工成本高，且生产效率低。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种连续式真空镀膜设备，其可以在需要基片进行多次镀膜时自动对基片进行连续传送，从而不仅可以实现基片的连续多次镀膜，而且可以降低人工成本，提高生产效率。

为实现上述目的，本发明提供了一种连续式真空镀膜设备，包括依次设置的第一升降台、镀膜装置以及第二升降台，

所述第一升降台和所述第二升降台均能够在上工位和下工位之间升降，且在所述第一升降台和所述第二升降台上均设置有用于传输托盘的第一传输装置和第二传输装置；

回传机构，用于在所述第一升降台和所述第二升降台均位于所述下工位时在二者之间传输所述托盘。

可选的，所述第一升降台包括：第一托盘架和第一升降机构，在所述第一托盘架上设置有所述第一传输装置，且所述第一升降机构用于驱动所述第一托盘架在上工位和下工位之间升降；

所述第二升降台包括第二托盘架和第一升降机构，在所述第二托盘架上设置有所述第二传输装置，且所述第一升降机构用于驱动所述第二托盘架在上工位和下工位之间升降。

可选的，所述回传机构包括用于传输所述托盘的第三传输装置，所述第三传输装置设置在所述镀膜装置的下方。

可选的，所述第一传输装置、所述第二传输装置以及第三传输装置均包括传送带机构或者辊轴机构。

可选的，所述连续式真空镀膜设备还包括翻转装置，且所述翻转装置、所述第一升降台、所述镀膜装置以及所述第二升降台依次设置；所述翻转装置用于通过翻转两个托盘，来使两个所述托盘之间的基片的正面或背面朝上；并且，在所述翻转装置上设置有用于传输所述托盘的第四传输装置，在所述第一升降台位于所述上工位时，所述第四传输装置与所述第一传输装置之间能够传递所述托盘。

可选的，所述翻转装置包括可翻转的翻转架、相对设置在所述翻转架上的两个第一夹紧机构、分别与两个所述第一夹紧机构连接的两个载台组件以及分别设置在两个所述载台组件上的两个第二夹紧机构，其中，

各所述载台组件上均设置有所述第四传输装置；

两个所述第一夹紧机构用于分别向两个所述载台组件的四周边缘处施加压力，以将置于两个所述载台组件之间的两个所述托盘夹紧；

两个所述第二夹紧机构用于分别向置于两个所述载台组件上的两个所述托盘的指定位置施加压力，所述指定位置为与所述托盘上的基片相对应的位置。