[发明专利]一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构在审
申请号: | 201911196366.X | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN111312614A | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 温春兰;吴海达 | 申请(专利权)人: | 福建省福联集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 徐剑兵;张忠波 |
地址: | 351117 福建省莆*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蚀刻 甩干一 体式 机台 以及 机构 | ||
1.一种甩干机构,其特征在于,包括:动力机构、控制机构、导轨、固定架;
所述动力机构与所述控制机构相连接,用于提供动力;
所述固定架设置于所述所述控制机构一侧,用于固定晶舟的位置,且所述固定架上还设置有用于容置晶舟的孔洞;所述导轨可伸缩设置于控制机构一侧,并与所述固定架滑动连接,用于晶舟的放置。
2.根据权利要求1所述一种甩干机构,其特征在于,还包括:手臂杆,
所述手臂杆可伸缩、可旋转的设置于所述控制机构上;且所述手臂杆远离所述控制机构的一端上还设置有卡板,并用于固定晶舟。
3.根据权利要求2所述一种甩干机构,其特征在于,所述手臂杆还包括:软胶片,所述软胶片用于贴合、抓牢晶舟。
4.根据权利要求1所述一种甩干机构,其特征在于,所述导轨为两根导轨杆,两根导轨杆的间距为晶舟底部支撑部之间的间距,且所述导轨杆分别用于容置晶舟底部的两个支撑部。
5.根据权利要求1所述一种甩干机构,其特征在于,还包括:第一传感器;所述第一传感器设置于所述一种甩干机构靠近固定架的一侧,用于感应晶舟的位置信号,且当所述导轨伸出时,位于所述第一传感器上方。
6.根据权利要求1所述一种甩干机构,其特征在于,还包括:第二传感器;所述第二传感器设置于所述导轨上,用于感应晶舟的位置信号。
7.根据权利要求5所述一种甩干机构,其特征在于,还包括:甩干机门;所述甩干机门可升降的设置在所述固定架上。
8.一种蚀刻与甩干一体式机台,其特征在于,包括:权利要求1至7任意一项所述一种甩干机构、机台手臂、化学反应槽;
所述化学反应槽设置于所述甩干机构的一侧,所述机台手臂设置于所述化学反应槽的一侧,用于运送、抓取晶舟。
9.根据权利要求8所述一种蚀刻与甩干一体式机台,其特征在于,还包括:载入端、输出端、第一快门、第二快门;
所述载入端设置于化学反应槽远离甩干机构的一侧,所述输出端设置于甩干机构远离化学反应槽,且所述化学反应槽、载入端、输出端位于同一水平线上;
所述第一快门设置于所述载入端与化学反应槽之间,用于分隔载入端与化学反应槽,所述第二快门设置于所述甩干机构与化学反应槽之间,用于分隔甩干机构与化学反应槽。
10.根据权利要求8所述一种蚀刻与甩干一体式机台,其特征在于,还包括:控制器;所述控制器与所述一种蚀刻与甩干一体式机台连接,所述控制器用于执行如下方法步骤:
驱动机台手臂抓取晶舟至化学反应槽;
驱动机台手臂抓取化学反应槽中制程完成后的晶舟移动至第一传感器上方;
控制器接受到第一传感器信号,驱动甩干机门开启;
驱动导轨伸出,驱动机台手臂将晶舟放置于导轨上;
控制器接受到第二传感器信号,驱动手臂杆伸出,随后驱动手臂杆旋转;
驱动手臂杆和导轨一起伸进甩干机构内,并驱动甩干机门关闭;
驱动动力机构工作;
驱动手臂杆、导轨伸出,驱动机台手臂抓取晶舟,移出甩干机构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造