[发明专利]一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构

说明书

本发明公开一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构，通过动力机构、控制机构、导轨、固定架的相互配合实现晶圆的甩干。首先位于甩干机构底部的导轨将从固定架内伸出，用于晶舟的放置。随后经所导轨将带晶舟一同移动至所述固定架中，随后通过动力机构工作，所述控制机构、导轨、固定架以及位于所述固定架内的晶舟将一同转动，甩干晶圆上残留的液体。通过动力机构、控制机构、导轨、固定架的相互配合将大幅提升晶圆的甩干效率，同时导轨的可伸缩设置将提高晶舟的运输效率。

技术领域

本发明涉及晶圆加工设备领域，尤其涉及一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构。

背景技术

湿蚀刻是利用化学药液腐蚀去除材质上未被光阻覆盖的部分，从而达到蚀刻出我们所需要的深度和图形。而在这个蚀刻步骤中，如何把药液从晶圆上去除甩干也是其中重要的步骤。现有的去除晶圆上的药液和甩干步骤是：当晶舟从化学药液槽里蚀刻完后，机械手臂抓晶舟到输出端，然后由操作人员开启机台门，拿取到甩干机中去甩干和清洁。在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术中存在如下问题：若操作人员不在场，晶圆无法及时清洁甩干。操作人员手拿湿晶舟，一方面晶舟由于湿润比较滑，容易引发破片事故；另一方面，操作人员直接用手拿晶舟，可能表面还存在一些化学药液等，对于人员的人身安全存在危险。同时操作需要的时间较长，效率较低。

发明内容

为此，需要提供一种蚀刻与甩干一体式机台以及甩干机构，以避免人工抓取晶舟时，晶圆破片以及化学药液伤害人体等状况的发生；同时提高制程效率。

为实现上述目的，发明人提供了一种甩干机构，包括：动力机构、控制机构、导轨、固定架；

所述动力机构与所述控制机构相连接，用于提供动力；

所述固定架设置于所述所述控制机构一侧，用于固定晶舟的位置，且所述固定架上还设置有用于容置晶舟的孔洞；所述导轨可伸缩设置于控制机构一侧，并与所述固定架滑动连接，用于晶舟的放置。

进一步地，还包括：手臂杆，

所述手臂杆可伸缩、可旋转的设置于所述控制机构上；且所述手臂杆远离所述控制机构的一端上还设置有卡板，并用于固定晶舟。

进一步地，所述手臂杆还包括：软胶片，所述软胶片用于贴合、抓牢晶舟。

进一步地，所述导轨为两根导轨杆，两根导轨杆的间距为晶舟底部支撑部之间的间距，且所述导轨杆分别用于容置晶舟底部的两个支撑部。

进一步地，还包括：第一传感器；所述第一传感器设置于所述一种甩干机构靠近固定架的一侧，用于感应晶舟的位置信号，且当所述导轨伸出时，位于所述第一传感器上方。

进一步地，还包括：第二传感器；所述第二传感器设置于所述导轨上，用于感应晶舟的位置信号。

进一步地，还包括：甩干机门；所述甩干机门可升降的设置在所述固定架上。

发明人提供了一种蚀刻与甩干一体式机台，包括：，本发明任意一项实施例所述一种甩干机构、机台手臂、化学反应槽；

所述化学反应槽设置于所述甩干机构的一侧，所述机台手臂设置于所述化学反应槽的一侧，用于运送、抓取晶舟。

进一步地，还包括：载入端、输出端、第一快门、第二快门；

所述载入端设置于化学反应槽远离甩干机构的一侧，所述输出端设置于甩干机构远离化学反应槽，且所述化学反应槽、载入端、输出端位于同一水平线上；

所述第一快门设置于所述载入端与化学反应槽之间，用于分隔载入端与化学反应槽，所述第二快门设置于所述甩干机构与化学反应槽之间，用于分隔甩干机构与化学反应槽。

进一步地，还包括：控制器；所述控制器与所述一种蚀刻与甩干一体式机台连接，所述控制器用于执行如下方法步骤：