[发明专利]测距装置

权利要求书

1.一种测距装置，其包括：

光源，其被构造为发射光；

第一光学元件，其被构造为减小从所述光源发射的光的强度，从所述光源发射的光贯穿所述第一光学元件；

光接收元件，其被构造为接收从所述光源朝向预定空间发射并从物体反射回来的光；

基板，其被构造为支撑所述光源和所述光接收元件；

第二光学元件，其布置在比所述光接收元件的位置高的位置，用于收集从所述物体反射回来的光，并且从所述物体反射回来的光贯穿所述第二光学元件；

框架，其布置为连接至所述基板，并且使所述第一光学元件和所述第二光学元件与所述光源和所述光接收元件间隔开预定距离；

分隔部，其布置在所述光源和所述光接收元件之间，从而与所述框架配合在所述光源侧形成第一腔、在所述光接收元件侧形成第二腔；以及

处理器，其被构造为监视和控制所述光源的输出，所述处理器布置于所述基板的与布置所述光源的表面相反的表面，并且经由所述基板电连接至所述光源。

2.根据权利要求1所述的测距装置，其特征在于，如果所述光源的输出值偏离基准水平，则所述处理器运行眼睛安全模式以限制所述光源的输出。

3.根据权利要求1所述的测距装置，其特征在于，所述测距装置还包括光敏元件，该光敏元件布置于所述基板，用于测量从所述第一光学元件反射回来的光的照射强度。

4.根据权利要求3所述的测距装置，其特征在于，如果由所述光敏元件测量的光在预定的基准水平以外，则所述处理器运行眼睛安全模式以限制所述光源的输出。

5.根据权利要求1所述的测距装置，其特征在于，所述基板包括第一基板和第二基板，所述光源和所述处理器布置于所述第一基板，所述光接收元件布置于所述第二基板。

6.根据权利要求1所述的测距装置，其特征在于，所述框架、所述分隔部和所述基板包括陶瓷。

7.根据权利要求6所述的测距装置，其特征在于，所述陶瓷是低温共烧陶瓷。

8.根据权利要求1所述的测距装置，其特征在于，所述处理器通过形成在所述基板内的通孔填料电连接至所述光源。

9.根据权利要求1所述的测距装置，其特征在于，所述框架的内表面和所述分隔部的外表面设置有金属接地部。

10.根据权利要求1所述的测距装置，其特征在于，所述第二光学元件包括红外滤光器。

11.根据权利要求1所述的测距装置，其特征在于，所述光源包括垂直腔面发射激光器，并且所述第一光学元件包括用于扩散光的扩散器。

12.一种测距装置，其包括：

光源，其被构造为发射光；

第一光学元件，其被构造为减小从所述光源发射的光的强度，从所述光源发射的光贯穿所述第一光学元件；

光接收元件，其被构造为接收从所述光源朝向预定空间发射并从物体反射回来的光；

第二光学元件，其布置在比所述光接收元件的位置高的位置，用于收集从所述物体反射回来的光，并且从所述物体反射回来的光贯穿所述第二光学元件；

结构件，其被构造为使所述第一光学元件与所述光源间隔开预定距离以及使所述第二光学元件与所述光接收元件间隔开预定距离，支撑所述第一光学元件、所述第二光学元件、所述光源和所述光接收元件，并在所述光源侧形成第一腔、在所述光接收元件侧形成第二腔，从而使所述光源和所述光接收元件彼此间隔开预定距离；以及

处理器，其被构造为监视和控制所述光源的输出，所述处理器布置于所述结构件的与布置所述光源的表面相反的表面，并且经由所述结构件电连接至所述光源。

13.根据权利要求12所述的测距装置，其特征在于，如果所述光源的输出值偏离基准水平，则所述处理器运行眼睛安全模式以限制所述光源的输出。