[发明专利]光电探测器、调焦调平装置以及光刻投影设备有效

专利信息
申请号: 201911204078.4 申请日: 2019-11-29
公开(公告)号: CN112882356B 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 毛静超;徐荣伟;庄亚政;孙建超;季桂林 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G01B11/06;G01B11/26
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 王宏婧
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光电 探测器 调焦 平装 以及 光刻 投影设备
【权利要求书】:

1.一种光电探测器,其特征在于,包括:

基底;

排列设置在所述基底上的至少两个光电探测组件,用于接收光束;

设置在所述基底上的至少一个第一遮挡组件,所述第一遮挡组件位于任意相邻的两个光电探测组件之间,用于抵挡相邻的光电探测组件之间的光束传播;

设置在所述基底内的至少一个第二遮挡组件,用于抵挡穿过预定光电探测组件的光束从光电探测组件的下方被反射至相邻的光电探测组件。

2.如权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述光电探测器还包括覆盖所述光电探测组件的保护板,所述保护板的透光率大于等于80%。

3.如权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述第二遮挡组件的高度小于等于所述基底的厚度;

以及,所述第二遮挡组件介于任意相邻的两个光电探测组件之间;或者,所述第二遮挡组件位于所述光电探测组件的下方。

4.如权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述第一遮挡组件和所述第二遮挡组件的表面均涂有黑色涂层。

5.如权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述第一遮挡组件和第二遮挡组件的形状均为板状。

6.如权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述第一遮挡组件的顶端高于所述光电探测组件的顶端。

7.如权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述第一遮挡组件设置在相邻的两个光电探测组件之间的中间位置。

8.如权利要求7所述的光电探测器,其特征在于,所述第一遮挡组件的高度小于等于[(d-c)/2]×cot(δ+arcsinNA);

其中,c为所述第一遮挡组件的宽度;

d为所述第一遮挡组件两侧的两个光电探测组件之间的间距;

δ为光束入射至所述光电探测组件的入射角;

NA为光束的数值孔径。

9.如权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述光电探测组件包括光电二极管。

10.一种调焦调平装置,其特征在于,包括光源、具备至少一个投影狭缝的投影组件、投影镜组、探测镜组以及如权利要求1-9任一所述的光电探测器;

其中,光源发出入射光经过所述投影组件并抵至所述投影镜组,所述投影镜组将所述投影组件上的投影狭缝投影至放置于运动台上的半导体基底的表面以形成光斑,所述半导体基底将对应于所述光斑的光束反射至所述探测镜组,所述探测镜组基于所述光斑的反射光束将所述光斑成像至光电探测器上。

11.如权利要求10所述的调焦调平装置,其特征在于,所述装置还包括位于所述光源和所述投影组件之间的照明组件,所述照明组件用于接收所述入射光,并对所述入射光起准直作用后,将所述入射光照射至所述投影组件上。

12.一种光刻投影设备,其特征在于,包括如权利要求10或11所述的调焦调平装置。

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