[发明专利]一种光学临近效应修正方法及装置

权利要求书

1.一种光学临近效应修正方法，其特征在于，目标布局图形至少包括主体上凸起的线条和/或主体上凹陷的狭缝，所述光学临近效应修正方法包括：

获取所述目标布局图形；

将所述目标布局图形的边缘分割成若干个片段，并在所述片段上设置控制点；其中，所述线条的线条端和/或所述狭缝的狭缝端被分为奇数个片段，所述控制点位于所述片段两个端点之间的区域，且所述线条的线条端和/或所述狭缝的狭缝端的中点有所述控制点；

调整所述控制点对所述片段进行修正，获取修正图形；

根据所述修正图形获取所述目标布局图形的模拟轮廓；

计算所述模拟轮廓与所述目标布局图形之间的偏差值；根据所述偏差值判断所述修正图形是否满足工艺需求；

调整所述控制点对所述片段进行多次修正，直至获取的所述模拟轮廓与所述目标布局图形之间的偏差值满足工艺需求；

在所述多次修正中，依据前次修正中获取的所述偏差值进行后次修正中所述控制点的调整；

所述线条端的宽度或所述狭缝端的宽度小于宽度阈值，所述宽度阈值为1.5～1.6倍的最小特征尺寸；

所述线条端的临边的长度或所述狭缝端的临边的长度大于长度阈值；所述长度阈值为0.2～0.3倍的最小特征尺寸。

2.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述根据所述偏差值判断所述修正图形是否满足工艺需求的步骤，还包括：

预设一规格参数，所述偏差值在所述规格参数之内，则所述修正图形满足工艺需求。

3.根据权利要求2所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述规格参数为所述目标布局图形尺寸的5％。

4.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述线条的线条端的片段的宽度均相等，和/或所述狭缝的狭缝端的片段的宽度均相等。

5.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述线条端或所述狭缝端的每个片段内包括至少一个控制点。

6.根据权利要求5所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述线条端或所述狭缝端的每个片段中包括奇数个控制点。

7.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，还包括：

根据各控制点所处区域的权重对所述片段进行修正。

8.根据权利要求7所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述线条区域和/或狭缝区域的权重大于所述主体区域的权重；所述线条区域为所述线条所在区域，所述狭缝区域为所述狭缝所在区域。

9.根据权利要求7所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述目标布局图形还可以包括内侧转角区域和外侧转角区域；所述内侧转角区域和所述外侧转角区域的权重大于所述主体区域的权重；

所述内侧转角区域和所述外侧转角的每条边缘的片段的个数为奇数。

10.一种光学临近效应修正装置，其特征在于，应用于至少包括主体上凸起的线条和/或主体上凹陷的狭缝的目标布局图形，包括：

片段及控制点设置模块，用于获取所述目标布局图形；将所述目标布局图形的边缘分割成若干个片段，并在所述片段上设置控制点；其中，所述线条的线条端和/或所述狭缝的狭缝端被分为奇数个片段，所述控制点位于所述片段两个端点之间的区域，且所述线条的线条端和/或所述狭缝的狭缝端的中点有所述控制点；所述线条端的宽度或所述狭缝端的宽度小于宽度阈值，所述宽度阈值为1.5～1.6倍的最小特征尺寸；所述线条端的临边的长度或所述狭缝端的临边的长度大于长度阈值；所述长度阈值为0.2～0.3倍的最小特征尺寸；

修正模块，用于调整所述控制点对所述片段进行修正，获取修正图形；

轮廓模块，用于根据所述修正图形获取所述目标布局图形的模拟轮廓；

偏差计算模块，用于计算所述模拟轮廓与所述目标布局图形之间的偏差值；

迭代模块，用于循环调用所述修正模块和所述轮廓模块，直到所述偏差计算模块获取的所述偏差值满足工艺需求。