[发明专利]晶体管的开启电压的测试方法及测试装置有效

专利信息
申请号: 201911220213.4 申请日: 2019-12-03
公开(公告)号: CN111220888B 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 王明 申请(专利权)人: 海光信息技术股份有限公司
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云
地址: 300384 天津市天津华苑产业*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶体管 开启 电压 测试 方法 装置
【说明书】:

一种晶体管的开启电压的测试方法及测试装置。该测试方法包括:获得第一测量开启电压以及检测目标电流;对晶体管的源漏电流进行多个测试步骤,其中,多个测试步骤每个包括:对栅极施加测量电压,在源极和漏极之间施加源漏电压的同时,测量源极与漏极之间的测量电流,其中,多个测试步骤的多个测量电压彼此不同,源漏电压在多个测试步骤中保持不变,且在第一个测试步骤中采用第一测量开启电压作为测量电压,多个测试步骤的多个测量电流所构成的测量电流区间覆盖检测目标电流;以及基于多个测量电流获得晶体管的开启电压。上述测试方法可以提高开启电压的测试精度以及在同等测试精度下减少测试时间。

技术领域

本公开的实施例涉及一种晶体管的开启电压的测试方法及测试装置。

背景技术

在晶体管的生产过程中,对晶体管的参数测量是十分有必要的。尤其是在晶体管被制作完成后,需要测量得到该晶体管的栅极开启电压,以此判断晶体管的工作性能是否达标。

发明内容

本公开的实施例提供一种晶体管的开启电压的测试方法及测试装置。该测试方法可以提高开启电压的测试精度以及在同等测试精度下减少测试时间。

本公开至少一个实施例提供了一种晶体管的开启电压的测试方法,其中,所述晶体管包括栅极、源极和漏极,所述测试方法包括:获得第一测量开启电压以及检测目标电流;对所述晶体管的源漏电流进行多个测试步骤,其中,所述多个测试步骤每个包括:对所述栅极施加测量电压,在所述源极和所述漏极之间施加源漏电压的同时,测量所述源极与所述漏极之间的测量电流,其中,所述多个测试步骤的多个测量电压彼此不同,所述源漏电压在所述多个测试步骤中保持不变,且在第一个测试步骤中采用所述第一测量开启电压作为测量电压,多个测试步骤的多个测量电流所构成的测量电流区间覆盖所述检测目标电流;以及基于所述多个测量电流获得所述晶体管的开启电压。

例如,在本公开至少一个实施例提供的测试方法中,除最后一个测试步骤之外,所述多个测试步骤的每个还包括:比较所述测量电流与所述检测目标电流,当所述测量电流小于所述检测目标电流时,将所述测试步骤中的测量电压增加一个预设改变电压值,以得到用于下一个测试步骤的测量电压;或者当所述测试步骤中的所述测量电流大于所述检测目标电流时,所述测试步骤中的测量电压减小一个预设改变电压值,以得到用于下一个测试步骤的测量电压。

例如,在本公开至少一个实施例提供的测试方法中,在每个测试步骤中,所述预设改变电压值的大小相同。

例如,在本公开至少一个实施例提供的测试方法中,所述多个测试步骤的每个还包括:当所述测试步骤中的所述测量电流等于所述检测目标电流时,将所述测试步骤中的所述测量电流对应的测试步骤中的测量电压确定为所述晶体管的开启电压。

例如,在本公开至少一个实施例提供的测试方法中,基于所述多个测量电流获得所述晶体管的开启电压包括:基于所述测量电流区间中与所述检测目标电流紧邻的两个测量电流以及与所述两个测量电流分别对应的测试步骤中的两个测量电压,获得所述晶体管的开启电压。

例如,在本公开至少一个实施例提供的测试方法中,基于所述测量电流区间中与所述检测目标电流紧邻的两个测量电流以及与所述两个测量电流分别对应的测试步骤中的两个测量电压,获得所述晶体管的开启电压包括:获得所述两个测量电流的变化量与所述两个测量电压的变化量的比值,根据所述两个测量电流的变化量与所述两个测量电压的变化量的比值基于跨导法,得到所述晶体管的开启电压。

例如,在本公开至少一个实施例提供的测试方法中,根据所述两个测量电流的变化量与所述两个测量电压的变化量的比值基于跨导法得到所述晶体管的开启电压包括:根据所述两个测量电流的变化量与所述两个测量电压的变化量的比值确定与栅极电压-源漏电流的标准曲线相切的直线,根据所述直线与所述栅极电压-源漏电流的标准曲线的横坐标的交点获得第一栅极截止电压,根据所述第一栅极截止电压以及所述源漏电压得到所述晶体管的开启电压。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于海光信息技术股份有限公司,未经海光信息技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911220213.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top