[发明专利]化学增幅型正型感光性树脂组成物及其应用

说明书

本发明提供一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，其包括树脂(A)、光酸产生剂(B)及溶剂(C)。本发明更包括应用此化学增幅型正型感光性树脂组成物所制得的保护膜，及包括此保护膜的元件。此保护膜具有良好的显影密着性及耐化性，且可应用于薄膜电晶体基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材。

技术领域

本发明是有关于一种化学增幅型正型感光性树脂组成物、由其形成的保护膜及具有保护膜的元件。其中，特别是提供一种曝光、显影后形成显影密着性佳、耐化性佳等特性的保护膜用正型感光性树脂组成物。此保护膜适用于液晶显示元件、有机EL显示元件等的薄膜电晶体(Thin Film Transistor；TFT)基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材。

背景技术

薄膜电晶体型液晶显示元件或有机电致发光元件(organicelectroluminescence device，有机EL元件)等显示元件，通常包括层间绝缘膜或平坦化膜等绝缘膜。此种绝缘膜通常使用感放射线性组成物来形成。就图案化性能的观点而言，现有习知多使用利用萘醌二迭氮化物(naphthoquinone diazide)等酸产生剂的正型感放射线性树脂组成物(参照日本专利特开2001-354822号公报)，做为此种感放射线性组成物，但近年来提出了多种感放射线性组成物。

举例而言，提出了一种正型化学增幅材料，其目的在于：以较使用萘醌二迭氮化物等酸产生剂的前述正型感放射线性树脂组成物具有更高的感度，来形成显示元件用的硬化膜(参照日本专利特开2004-4669号公报)。所述正型化学增幅材料含有交联剂、酸产生剂及酸解离性树脂。酸解离性树脂具有可利用酸的作用而解离的保护基，虽酸解离性树脂本身不溶或者难溶于碱性水溶液中，但通过利用酸的作用，使保护基解离而变得可溶于碱性水溶液中。另外，也提出了含有具有缩醛结构及/或缩酮结构以及环氧基的树脂及酸产生剂的正型感放射线性组成物(参照日本专利特开2004-264623号公报、日本专利特开2011-215596号公报以及日本专利特开2008-304902号公报)。

这些感放射线性树脂组成物中，除了高的放射线感度以外，还需要求即便长期保存，黏度也不会变化的保存稳定性，进而使这些感放射线性树脂组成物形成的硬化膜，可达到不因显影液等而膨润的耐化性。进而，所述硬化膜形成的图案也可达到：在显影后，图案与基板充分密合而难以剥离；硬化膜具有足够的透明性；以及，即便在曝光后进行放置的情况下，图案也与基板充分密合而难以剥离。

然而，目前的感光性树脂组成物的显影密着性、耐化性仍无法令业界所接受。

发明内容

本发明的一个态样在于提出一种化学增幅型正型感光性树脂组成物。在一些实施例中，此化学增幅型正型感光性树脂组成物可包含树脂(A)、光酸产生剂(B)和溶剂(C)，以下详述之。

树脂(A)

树脂(A)是由混合物所共聚合而得。此混合物至少包括不饱和羧酸单体(a-1)、含硅烷基的不饱和化合物(a-2)以及含酸解离性基的单体(a-3)。

不饱和羧酸单体(a-1)

本发明的不饱和羧酸单体(a-1)是指包含羧酸基或羧酸酐结构及聚合结合用的不饱和键的化合物，其结构并无特别限制，可包括但不限于不饱和单羧酸化合物、不饱和二羧酸化合物、不饱和酸酐化合物、多环型不饱和羧酸化合物、多环型不饱和二羧酸化合物、多环型不饱和酸酐化合物。

前述不饱和单羧酸化合物的具体例如：(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、乙基丙烯酸、肉桂酸、2-(甲基)丙烯酰乙氧基丁二酸酯、2-(甲基)丙烯酰乙氧基六氢化苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯酰乙氧基苯二甲酸酯、omega-羧基聚己内酯多元醇单丙烯酸酯(商品名为ARONIX M-5300，东亚合成制)。