[发明专利]一种靶材背板表面的抛光处理方法

权利要求书

1.一种靶材背板表面的抛光处理方法，其特征在于，所述方法包括：

将靶材组件倒置在磁力抛光装置中，靶材背板朝上，进行磁力抛光处理；

所述靶材组件的靶材表面覆盖有靶材保护层；

所述方法在磁力抛光装置中加入抛光溶液；

所述方法在磁力抛光装置中加入研磨剂；

所述研磨剂在抛光溶液中的体积浓度为10～30％；

在所述靶材组件的靶材下方设置垫块；

所述方法在磁力抛光装置中加入研磨钢针；

所述靶材组件的靶材背板上设有孔；

所述研磨钢针的长度比靶材背板的孔的孔径小；

所述研磨钢针包括不同尺寸的研磨钢针。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述垫块的高度为2～4cm。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述垫块的高度为2.5～3.5cm。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述靶材保护层为净化布。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法在磁力抛光装置中加入水。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述磁力抛光装置中抛光溶液的高度比靶材组件的高度高3～5cm。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述磁力抛光装置中抛光溶液的高度比靶材组件的高度高3.5～4.5cm。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述研磨剂包括表面活性剂、有机酸或无机酸中的任意一种或至少两种的组合。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述研磨剂在抛光溶液中的体积浓度为15～25％。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法在磁力抛光装置中加入防锈液。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述防锈液包括羧酸和/或磺酸。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述防锈液在抛光溶液中的体积浓度为5～15％。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述防锈液在抛光溶液中的体积浓度为8～12％。

14.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述研磨钢针的总体积为抛光溶液体积的5～15％。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述研磨钢针的总体积为抛光溶液体积的8～12％。

16.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述研磨钢针的直径为0.2～1.0mm。

17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述研磨钢针的直径为0.5～0.8mm。

18.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述研磨钢针的长度小于靶材背板的孔的孔径的2/3。

19.根据权利要求1或2项所述的方法，其特征在于，所述磁力抛光装置为磁力抛光机。

20.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述磁力抛光处理的时间为3～10min。

21.根据权利要求20所述的方法，其特征在于，所述磁力抛光处理的时间为5～8min。