[发明专利]覆膜支架

权利要求书

1.一种覆膜支架，其具有近端大弯侧和近端小弯侧，其特征在于，所述覆膜支架包括主体支架、设置在所述主体支架的内侧的内层覆膜以及设置在所述主体支架的外侧的外层覆膜，所述主体支架包括多个沿轴向间隔排布的波圈，所述波圈上形成有交替排布的波峰和波谷，在所述外层覆膜上设置有第一开口，所述第一开口使位于所述近端大弯侧处或靠近所述近端大弯侧处的至少一个所述波谷显露在外,所述外层覆膜完全覆盖所述近端小弯侧。

2.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，所述第一开口由所述近端小弯侧延伸至所述近端大弯侧，所述第一开口的高度由所述近端小弯侧至所述近端大弯侧逐渐增大，所述第一开口使位于所述近端大弯侧处或靠近所述近端大弯侧处的多个所述波谷显露在外，位于所述近端小弯侧处的所述波谷全部由所述外层覆膜覆盖。

3.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，所述第一开口为设置在所述近端大弯侧且沿周向延伸的矩形开口，所述矩形开口使位于同一所述波圈上的多个所述波谷显露在外。

4.根据权利要求3所述的覆膜支架，其特征在于，所述第一开口在所述周向上的长度为所述外层覆膜在周向上长度的1/3至2/3。

5.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，所述第一开口为多个且分布于所述近端大弯侧及靠近所述近端大弯侧的位置，每一所述第一开口为使一个所述波谷显露在外的矩形开口。

6.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，所述第一开口为多个且分布于所述近端大弯侧及靠近所述近端大弯侧的位置，每一所述第一开口为使一个所述波谷伸出至所述外层覆膜之外的缝隙。

7.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，在所述外层覆膜上还设置有第二开口，所述第二开口靠近所述主体支架的远端，所述第二开口为沿周向延伸且首尾相连的环状开口，所述第二开口使位于同一所述波圈上的全部所述波峰显露在外。

8.根据权利要求7所述的覆膜支架，其特征在于，所述覆膜支架还包括多个沿轴向间隔布置的加固线，每一所述加固线均沿周向缠绕于所述主体支架上，所述加固线避让所述第一开口和第二开口设置。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的覆膜支架，其特征在于，所述波圈的显露部分的高度不超过所述波圈高度的1/3。

10.根据权利要求1至8中任一项所述的覆膜支架，其特征在于，对于有显露在外的至少部分的所述波圈，其上连接所述波峰和所述波谷的丝杠上设有弧形过渡段。