[发明专利]金属掩膜板的表面处理方法

说明书

一种金属掩膜板的表面处理方法，所述金属掩膜板用于柔性OLED封装中，所述表面处理方法包括：采用氯化氢溶液清洗金属掩膜板的表面；对清洗后的金属掩膜板进行水洗，并采用热风对水洗后的金属掩膜板进行烘干；采用脉冲式磁控溅射方式对烘干后的金属掩膜板进行镀膜，并在金属掩膜板的表面形成一薄膜；取出镀膜后的金属掩膜板，并进行静置冷却。本发明通过采用脉冲式磁控溅射方式，在金属掩膜板的表面进行制备薄膜，该薄膜能够隔绝腐蚀介质对金属掩膜板的腐蚀，隔绝电弧导通金属掩膜板。

技术领域

本发明涉及柔性OLED封装技术领域，特别涉及一种金属掩膜板的表面处理方法。

背景技术

相对于传统屏幕，柔性OLED不仅在体积上更加轻薄，功耗上也低于原有器件，有助于提升设备的续航能力，而且同时具有可弯曲、柔韧性佳的特性，使得它的耐用程度也大大高于以往屏幕，降低设备意外损伤的概率，从而随着个人智能终端的不断渗透而广泛应用。

在柔性OLED封装制程中，需要采用CVD(化学气相沉积，Chemical VaporDeposition，简称CVD)的薄膜封装技术来阻止水氧渗透。采用CVD技术封装柔性OLED时，需要采用金属掩膜板进行精确镀膜，而金属掩膜板容易被CVD 技术中的气体氧化腐蚀，从而影响掩膜板的使用寿命和精度。

发明内容

鉴于上述状况，本发明的目的提出一种具有防腐蚀功能的金属掩膜板的表面处理方法。

一种金属掩膜板的表面处理方法，所述金属掩膜板用于柔性OLED封装中，所述表面处理方法包括：

S11：采用氯化氢溶液清洗金属掩膜板的表面；

S12：对清洗后的金属掩膜板进行水洗，并采用热风对水洗后的金属掩膜板进行烘干；

S13：采用脉冲式磁控溅射方式对烘干后的金属掩膜板进行镀膜，并在金属掩膜板的表面形成一薄膜；

S14：取出镀膜后的金属掩膜板，并进行静置冷却。

相较于现有技术，本发明通过采用脉冲式磁控溅射方式，在金属掩膜板的表面进行制备薄膜，该薄膜能够隔绝腐蚀介质对金属掩膜板的腐蚀，隔绝电弧导通金属掩膜板。

上述表面处理方法中，所述步骤S13，具体包括：

S131：将烘干后的金属掩膜板传送至溅射镀膜腔体中的待镀膜区；

S132：在所述溅射镀膜腔体中准备好镀膜用的靶材后，设置镀膜所需的环境条件；

S133：待所述环境条件稳定后，充入溅射镀膜所需气体；

S134：将烘干后的金属掩膜板输送至镀膜区进行镀膜，并在金属掩膜板的表面形成一薄膜。

上述表面处理方法中，所述步骤S132中，环境条件包括温度范围为0～300°，真空度低于20*10^-3pa。

上述表面处理方法中，所述步骤S133中，溅射镀膜所需气体的浓度为 5％～50％，此时的真空度为0.03～0.1pa。

上述表面处理方法中，所述步骤S134中，在镀膜时，靶材与金属掩膜板之间的距离为5～30cm，镀膜溅射功率为0.3～2kw，镀膜时间为2～10h。

上述表面处理方法中，所述薄膜的厚度小于10微米，材料为氧化锌、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氮化钛、碳化硅或氮化硅中的任意一种。

上述表面处理方法中，在所述步骤S13之前，所述表面处理方法还包括：

在烘干后的金属掩膜板的表面通过磁控溅射、电镀或蒸镀方式镀一过渡层。