[发明专利]一种降低钕铁硼永磁材料表面镀层孔隙率的方法

说明书

一种降低钕铁硼永磁材料表面镀层孔隙率的方法，属于烧结钕铁硼永磁材料表面处理领域。其特征在于：包括如下步骤：1）将钕铁硼永磁材料进行去灰；2）将钕铁硼永磁材料在封孔剂中浸泡，然后进行水洗，其中，封孔剂为醇胺类化合物；3）依次通过除油剂和酸对水洗后的钕铁硼永磁材料进行清洗；4）对钕铁硼永磁材料活化，然后再进行电镀。本降低钕铁硼永磁材料表面镀层孔隙率的方法在电镀前进行封孔处理，是通过毛细管作用将水吸入空隙内，使空隙内部的氧化物通过水合作用生成水合氧化物，以增大氧化物的体积，从而封闭孔隙；进而可以降低镀层的孔隙率，使镀层更加平整、光亮，且能降低磁体的磁通量损失。

技术领域

一种降低钕铁硼永磁材料表面镀层孔隙率的方法，属于烧结钕铁硼永磁材料表面处理领域。

背景技术

被称作当代“永磁之王”的钕铁硼永磁材料自问世以来，被广泛应用于军事、医疗和环保等各个领域，深受人们的青睐。但是，钕铁硼永磁材料的制造为粉末冶金工艺，和其他粉末材料一样，结构疏松，孔隙率高，在电镀加工过程中溶液极易渗入孔隙内，不易清洗干净，又因钕铁硼永磁材料由多种电极电位不同的相态组成，进而极易发生微电池反应，使钕铁硼及镀层在使用和贮存过程中横向腐蚀，导致镀层结合力下降，镀层鼓泡，起皮，材料粉化等。因此，随着钕铁硼永磁材料在各个领域的推广应用，急需开发优异的表面处理工艺。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种能够降低镀层的孔隙率，使镀层更加平整、光亮，且能降低磁体的磁通量的损失的降低钕铁硼永磁材料表面镀层孔隙率的方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：该降低钕铁硼永磁材料表面镀层孔隙率的方法，其特征在于：包括如下步骤：

1）将钕铁硼永磁材料进行去灰；

2）将钕铁硼永磁材料在封孔剂中浸泡，使钕铁硼永磁材料空隙内部的氧化物通过水合作用生成水合氧化物，以增大氧化物的体积，从而封闭孔隙，然后进行水洗，其中，封孔剂为醇胺类化合物；

3）依次通过除油剂和酸对水洗后的钕铁硼永磁材料进行清洗；

4）对钕铁硼永磁材料活化，然后再进行电镀。

优选的，步骤1）中所述的钕铁硼永磁材料在超声波内水洗90~120s；超声波的频率为800~1200Hz。

优选的，步骤2）中所述的封孔剂为三乙醇胺。

优选的，将步骤2）中的钕铁硼永磁材料在10~15mL/L的三乙醇胺溶液中浸泡15~20min，三乙醇胺溶液的温度为95~100℃。

优选的，对步骤2）中所述的钕铁硼永磁材料通过流动水清洗50~70s，完成所述水洗。

优选的，对步骤3）中所述的钕铁硼永磁材料的清洗步骤如下：

a）将钕铁硼永磁材料在温度为50~70℃、浓度为10~25mL/L的除油剂溶液中，超声波浸泡40~60s后，然后利用50~60℃的水清洗40~60s；

b）室温下，将钕铁硼永磁材料放入硝酸和清洗剂的混合液内对钕铁硼永磁材料进行酸洗，酸洗的时间为70~90s，其中，混合液中硝酸的浓度为30~40mL/L，清洗剂的浓度为15~25mL/L；

c）对酸洗后的钕铁硼永磁材料水洗40~60s，然后在超声波水洗50~70s。

优选的，步骤a）中所述的除油剂为CY-1除油剂，步骤b）中所述的清洗剂为SDC清洗剂。

优选的，将骤4）中所述的钕铁硼永磁材料在室温下放入12~16mL/L的氢氟酸中浸泡25~35s，完成所述活化。

优选的，步骤4）中所述的电镀为电镀镍铜镍镀层。

优选的，电镀包括如下步骤：