[发明专利]圆顶应力隔离层

说明书

本文所述的实施方式涉及用于工艺腔室中的机械隔离和热绝缘的装置和技术。在一个实施方式中，绝缘层被设置在圆顶组件和气体环之间。绝缘层被配置以维持圆顶组件的温度并且防止从圆顶组件到气体环的热能传递。绝缘层提供圆顶组件与气体环的机械隔离。绝缘层还在圆顶组件和气体环之间提供热绝缘。绝缘层可由含聚酰亚胺的材料制成，所述材料大幅地降低绝缘层变形的发生。

技术领域

本公开内容的实施方式大体上涉及半导体处理，且更具体地涉及用于降低工艺腔室的热传递和机械应力的装置和技术。

背景技术

使用各种工艺在基板上沉积膜。膜沉积通常通过将工艺气体引入包含基板的工艺腔室中来完成。工艺气体例如通过热量在工艺腔室内被激活。当激活工艺气体时，工艺腔室的部件通过热传导和热对流被加热。工艺腔室的某些部件通过冷却流体来主动冷却。未被主动冷却但相邻于主动冷却的部分的部件也可被冷却。

聚四氟乙烯(Polytetrafluoroethylene；PTFE)间隔件用于在工艺腔室的相邻部件之间产生物理间隔，以降低在相邻部件之间的热传递。然而，由于PTFE间隔件经受重复的加热和冷却，PTFE间隔件变形并且不再适合于使用。因此，常规的间隔件不能随时间防止或降低腔室部件之间的热传递，从而造成增加的维护成本。

因此，需要改进的工艺腔室设计。

发明内容

在一个实施方式中，提供一种装置，所述装置包括一个或多个腔室壁和圆顶组件。一个或多个腔室壁和圆顶组件在其中界定工艺容积。支撑基座设置在工艺容积中。环形气体环设置在一个或多个腔室壁与圆顶组件之间。绝缘层设置在环形气体环的表面上与圆顶组件相邻。绝缘层设置在环形气体环和圆顶组件之间。

在另一个实施方式中，提供一种装置，所述装置包括腔室壁和圆顶组件。腔室壁和圆顶组件在其中界定工艺容积。支撑基座设置在工艺容积中。环形气体环设置在腔室壁与圆顶组件之间。聚酰亚胺层设置在环形气体环和圆顶组件之间。

在另一个实施方式中，提供一种装置，所述装置包括腔室壁和圆顶组件。腔室壁和圆顶组件在其中界定工艺容积。支撑基座设置在工艺容积中。环形气体环设置在腔室壁与圆顶组件之间。聚酰亚胺层设置在环形气体环和圆顶组件之间。聚酰亚胺层设置在圆顶组件的表面上。

附图说明

以可以详细理解本公开内容的上述特征的方式，简要概述于上文的本公开内容的更具体描述可参照实施方式获得，所述实施方式中的一些实施方式在附图中示出。然而，应注意，附图仅示出示例性实施方式，且因此不被视为限制本公开内容的范围，因为本公开内容可允许其他同等有效的实施方式。

图1是根据一个实施方式的工艺腔室的横截面图。

图2是根据一个实施方式的放大表面的示意图。

为了促进理解，在可能的情况下，已经使用相同的附图标记以指示附图共有的相同元件。可以预期的是，一个实施方式的元件和特征可有益地并入其他实施方式中而无需进一步叙述。

具体实施方式

本文所述的实施方式涉及用于工艺腔室中的机械隔离和热绝缘的装置和技术。绝缘层被设置在圆顶组件和气体环之间。绝缘层在圆顶组件和气体环之间提供热绝缘。即，绝缘层被配置以减少从圆顶组件到气体环的热能传递。绝缘层也提供圆顶组件与气体环的机械隔离。绝缘层是由含聚酰亚胺的材料制成，所述材料大幅地降低了绝缘层的变形的发生。