[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，使用包含第1波长域和第2波长域的多个波长域的光对基板进行曝光，其特征在于，具有：

照明光学系统，用所述光对掩模进行照明；以及

投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到所述基板，

以包括包含至少所述第1波长域的光且所述第1波长域的光和所述第2波长域的光的强度比为第1强度比的第1强度分布和包含至少所述第2波长域的光且所述第1波长域的光和所述第2波长域的光的强度比为与所述第1强度比不同的第2强度比的第2强度分布的强度分布成为4次旋转对称的方式，该强度分布被形成于所述照明光学系统的瞳面。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1强度分布以及所述第2强度分布的各个是由所述照明光学系统的瞳面中的瞳半径规定的分布，

所述第1强度分布和所述第2强度分布通过所述瞳半径区分。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2波长域包括比所述第1波长域长的波长域，

所述第2强度分布包括成为比所述第1强度分布大的瞳半径的分布，

所述第1强度分布中的所述第2波长域的光的强度和所述第1波长域的光的强度的比即(所述第2波长域的光的强度)/(所述第1波长域的光的强度)小于所述第2强度分布中的所述第2波长域的光的强度和所述第1波长域的光的强度的比即(所述第2波长域的光的强度)/(所述第1波长域的光的强度)。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2波长域包括比所述第1波长域长的波长域，

所述第2强度分布包括成为比所述第1强度分布大的瞳半径的分布，

所述第2强度分布中的所述第1波长域的光的强度和所述第2波长域的光的强度的比即(所述第1波长域的光的强度)/(所述第2波长域的光的强度)小于所述第1强度分布中的所述第1波长域的光的强度和所述第2波长域的光的强度的比即(所述第1波长域的光的强度)/(所述第2波长域的光的强度)。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2波长域包括比所述第1波长域长的波长域，

所述第2强度分布包括成为比所述第1强度分布大的瞳半径的分布，

所述第2强度分布中的所述第2波长域的光的强度和所述第1波长域的光的强度的比即(所述第2波长域的光的强度)/(所述第1波长域的光的强度)小于所述第1强度分布中的所述第2波长域的光的强度和所述第1波长域的光的强度的比即(所述第2波长域的光的强度)/(所述第1波长域的光的强度)。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

将所述第1波长域设为λ1、将所述图案的间距设为P、将所述投影光学系统的数值孔径设为NA，所述第1强度分布包括用规定的瞳半径的分布。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述多个波长域包括与汞灯的多个亮线对应的波长。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统包括用于使所述多个波长域中的特定的波长域的光透射或者切断来形成所述第1强度分布以及所述第2强度分布的波长滤波器。