[发明专利]金属掩模、制造金属掩模的方法和制造显示面板的方法

说明书

提供了金属掩模、制造金属掩模的方法以及制造显示面板的方法。所述金属掩模包括：至少一个单元区域；以及多个贯穿孔，限定在至少一个单元区域中，其中，至少一个单元区域包括包含铁和镍的至少两种金属材料，每种金属材料具有30％或更高的激光吸收率。

本申请要求于2018年12月14日提交的第10-2018-0162090号韩国专利申请的优先权和权益，为了所有目的通过引用将该韩国专利申请包含于此，就如同在这里被充分地阐述一样。

技术领域

发明的示例性实施方式总体上涉及一种金属掩模、一种制造该金属掩模的方法和一种制造显示面板的方法，更具体地，涉及一种具有改善的工艺可靠性的金属掩模、一种制造该金属掩模的方法和一种制造显示面板的方法。

背景技术

显示面板包括多个像素。每个像素包括诸如晶体管的驱动元件和诸如有机发光二极管的显示元件。显示元件可以通过在基底上堆叠电极和发光图案形成。

为了在特定区域中形成发光图案，其中限定有贯穿孔的掩模被用于使发光层图案化。发光图案形成在基底的被掩模的贯穿孔暴露的区域中。发光图案的形状由贯穿孔的形状决定。

在此背景技术部分中公开的上述信息仅用于对发明构思的背景的理解，因此，其可以包含不构成现有技术的信息。

发明内容

根据发明的原理和示例性实施方式构造的金属掩模以及根据发明的原理的制造显示面板的方法提供了无杂质的金属掩模，从而在制造显示面板的工艺中改善可靠性并减少发光图案的缺陷。例如，根据发明的一些实施方式的金属掩模由具有相似的激光吸收率且不包含铝(Al)和镁(Mg)的金属材料(诸如铁(Fe)或镍(Ni))形成，铝和镁对铁(Fe)或镍(Ni)的期望性能充当了污染物或杂质。因此，根据发明的一些实施方式的制造显示面板的方法在形成显示面板的发光图案时减少了发光图案EP的缺陷，并且改善了工艺可靠性。

另外，根据发明的原理的制造金属掩模的方法提供了一种具有高工艺可靠性的金属掩模。例如，由于金属掩模由具有相似的激光吸收率的金属材料形成，因此根据发明的一些实施方式的制造金属掩模的方法可以改善金属掩模的加工性。因此，可以能够减少在制造金属掩模中的缺陷。

根据发明的一些具体有益实施方式，用于形成金属掩模的金属材料可以具有约30％或更高的激光吸收率，并且/或者金属材料的激光吸收率之间的差可以小于约20％。

发明构思的附加特征将在以下描述中阐述，并且部分将通过描述变得明显，或者可以通过发明构思的实践而了解。

根据发明的一个方面，一种金属掩模包括：至少一个单元区域；以及多个贯穿孔，限定在至少一个单元区域中，其中，至少一个单元区域包括具有铁和镍的至少两种金属材料，每种金属材料具有约30％或更高的激光吸收率。

每种金属材料的激光吸收率之间的差可以小于约20％。

金属材料可以不包含可感知量的铝或镁。

金属材料可以不包含可感知量的硫。

金属材料可以包括铁镍合金。

铁镍合金中的镍的含量可以在约30％至约40％的范围内。

根据发明的另一方面，一种制造金属掩模的方法，该方法可以包括如下步骤：从电解质溶液中形成包含铁和镍的薄金属膜；加工薄金属膜以形成金属基底；以及通过将激光照射在金属基底上形成具有多个贯穿孔的金属掩模。

形成金属基底的步骤可以包括如下步骤：使薄金属膜熔化；以及轧制熔化的薄金属膜以形成金属基底。

金属基底中的镍的含量可以在约30％至约40％的范围内。

电解质溶液可以包括铁化合物和镍化合物。

薄金属膜可以包括铁镍合金。