[发明专利]CMOS射频开关的仿真方法、装置及通信终端有效

专利信息
申请号: 201911263033.4 申请日: 2019-12-04
公开(公告)号: CN110929420B 公开(公告)日: 2023-07-11
发明(设计)人: 范象泉 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;H03K17/687
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张凤伟;唐嘉
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: cmos 射频 开关 仿真 方法 装置 通信 终端
【说明书】:

一种CMOS射频开关的仿真方法、装置及通信终端。所述方法包括:接收第一值;基于所述第一值,获得第一函数的当前值;所述第一函数以所述CMOS射频开关施加的栅极电压值为自变量的函数,且在所述CMOS射频开关处于开态时,所述第一函数的值为第一函数值,在所述CMOS射频开关处于关态时,所述第一函数的值为第二函数值;所述第一函数值小于第二函数值;接收第二值;接收第三值;基于所述第二值及第三值,输出所述CMOS射频开关的关态电容值;基于所述第二值、第三值及所述第一函数的当前值,输出所述CMOS射频开关的开态电阻值。采用上述方案,可以提高基于SOI工艺的CMOS射频开关的仿真速度。

技术领域

发明的实施例涉及CMOS射频开关设计领域,具体涉及一种CMOS射频开关的仿真方法、装置及通信终端。

背景技术

射频开关是现代无线通信系统中一个关键部件,其主要功能是进行收发信道的切换和多通道的选择。

基于绝缘体上硅(Silicon On Insulator,SOI)工艺的互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)射频开关,是使用普通CMOS工艺中NMOS晶体管作为射频开关的器件,因其很好地解决了系统集成度和成本之间的平衡问题,在现代无线通信系统中应用较为广泛。

目前,在具体实现基于SOI工艺的CMOS射频开关之前,通常需要对CMOS射频开关进行仿真,来得到相关参数值,并利用所得到的参数值进行后续的仿真,以进一步了解CMOS射频开关的射频性能。最终可以基于射频性能的仿真结果,确定是否需要调整CMOS射频开关中NMOS晶体管的排布方式。

然而,现有对CMOS射频开关进行仿真的方法,虽然可以精确地获取到CMOS射频开关较为全面的参数,但其仿真速度较慢,导致整个CMOS射频开关设计周期较长。

发明内容

本发明解决的技术问题是提高基于SOI工艺的CMOS射频开关的仿真速度。

为解决上述技术问题,本发明实施例提供一种CMOS射频开关的仿真方法,所述CMOS射频开关包括至少一条并联连接的支路,每条支路上包括至少一个NMOS晶体管;所述方法包括:接收第一值,所述第一值表示所述CMOS射频开关施加的栅极电压值;基于所述第一值,获得第一函数的当前值;所述第一函数以所述CMOS射频开关施加的栅极电压值为自变量的函数,且在所述CMOS射频开关处于开态时,所述第一函数的值为第一函数值,在所述CMOS射频开关处于关态时,所述第一函数的值为第二函数值;所述第一函数值小于第二函数值;接收第二值,所述第二值表示所述CMOS射频开关中并联支路的数量;接收第三值,所述第三值表示所述CMOS射频开关中每条支路上串联连接的NMOS晶体管的数量;基于所述第二值及第三值,输出所述CMOS射频开关的关态电容值;基于所述第二值、第三值及所述第一函数的当前值,输出所述CMOS射频开关的开态电阻值。

可选地,所述第一函数为:

F(VG)=2/(PVG1+1+tanh(VG/PVG2));

其中,F(VG)表示第一函数,VG为CMOS射频开关施加的栅极电压值;PVG1为第一模型参数值,且PVG1∈(0,0.01];PVG2为第二模型参数值,且PVG2属于(0,1];tanh(VG/PVG2)为关于CMOS射频开关施加的栅极电压值VG的双曲正切函数。

可选地,所述第一模型参数值PVG1及第二模型参数值PVG2均是通过实际测试获得。

可选地,所述基于所述第二值及第三值,输出所述CMOS射频开关的关态电容值,包括:

采用以下公式,得到所述CMOS射频开关的关态电容值C(XC1):

C(XC1)=CDS1*W/NS;

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