[发明专利]全封闭石英晶片清洗机

说明书

本发明公开了一种全封闭石英晶片清洗机，旨在提供一种清洗效果好的全封闭石英晶片清洗机。本发明包括机箱，所述机箱中设置有漏水板、废水回收模块及三个顶升机构，所述漏水板上设置有药剂清洗水池、喷洗水池及清水水池，所述废水回收模块位于所述漏水板的下方，且与所述药剂清洗水池、所述喷洗水池及所述清水水池配合，所述顶升机构的下端配合设置有晶片放置篮，三个所述晶片放置篮分别与所述药剂清洗水池、所述喷洗水池及所述清水水池配合。本发明应用于石英晶片清洗机的技术领域。

技术领域

本发明涉及一种全封闭石英晶片清洗机。

背景技术

石英晶片加工其中的一个工序是将晶片通过研磨砂研磨到客户需求的频率范围，加工完成后需要将这些研磨完成的晶片进行清洗，晶片清洗的洁净度决定了在角度分选工序的准确性，研磨过程中残留在晶片上面的残留砂等会影响到晶片角度测定时的准确性，传统的清洗方法很难将中间的砂液彻底洗净，导致研磨砂残留在晶片表面。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种清洗效果好的全封闭石英晶片清洗机。

本发明所采用的技术方案是：本发明包括机箱，所述机箱中设置有漏水板、废水回收模块及三个顶升机构，所述漏水板上设置有药剂清洗水池、喷洗水池及清水水池，所述废水回收模块位于所述漏水板的下方，且与所述药剂清洗水池、所述喷洗水池及所述清水水池配合，所述顶升机构的下端配合设置有晶片放置篮，三个所述晶片放置篮分别与所述药剂清洗水池、所述喷洗水池及所述清水水池配合。

进一步，所述药剂清洗水池及所述清水水池均为溢流池。

进一步，所述喷洗水池包括水槽及若干个喷头，若干个所述喷头均匀设置在所述水槽的两侧。

进一步，所述废水回收模块包括药剂回收池、喷洗回收池及清水回收池，所述药剂回收池与第一抽水泵的一端相连通，所述第一抽水泵的另一端与所述药剂清洗水池相连通，所述药剂回收池与所述药剂清洗水池还通过第一出水管相连通，所述喷洗回收池通过所述漏水板与所述喷洗水池相配合，所述清水回收池与第二抽水泵的一端相连通，所述第二抽水泵的另一端与所述清水水池相连通，所述清水回收池与所述清水水池还通过第二出水管相连通。

进一步，所述清水水池的外部设置有震动板，所述震动板中内嵌有超声波换能器。

本发明的有益效果是：相对于传统技术存在清洗不佳的状况，在本发明实施例中，清洗时，将石英晶片放置在位于所述药剂清洗水池处的所述晶片放置篮上，并通过所述顶升机构上下运动，使得药剂与石英晶片充分接触，从而实现所述药剂清洗水池对石英晶片的药剂清洗步骤，进一步将石英晶片放置在位于所述喷洗水池处的所述晶片放置篮上，并通过所述喷洗水池对石英晶片进行喷洗，且同时通过所述顶升机构带动石英晶片上下晃动，使得喷洗效果更好，所述喷洗水池接入外部的热水，热水温度需要保持在度以上，并需要喷洗分钟，进一步将石英晶片放置在所述清水水池处的所述晶片放置篮上，此时所述顶升机构带动所述晶片放置篮上下运动，使得石英晶片能够上下晃动而使得清洗效果好，所述震动板及所述超声波换能器的设置使得本发明能够利用超声波在液体中的空化及直进流作用，快速清洗石英晶片表面污染物，使得清洗效果更佳，所以，使得本发明具有清洗效果好的优点。

附图说明

图1是本发明的平面结构示意图。

具体实施方式