[发明专利]封堵器和吻合装置

权利要求书

1.一种吻合装置，包括：

框架，所述框架包括一个或多个细长构件，所述细长构件形成：

第一凸缘，其构造成接触一层或多层组织的第一面并且将并置力施加于所述一层或多层组织的所述第一面上，具有由所述一个或多个细长构件的各部分形成的基本上圆形周界，

第二凸缘，其构造成接触所述一层或多层组织的第二面并且将并置力施加于所述一层或多层组织的所述第二面上，具有由所述一个或多个细长构件的各部分形成的基本上圆形周界，以及

连接区域，所述连接区域设置在所述第一凸缘和所述第二凸缘之间并且使所述第一凸缘和所述第二凸缘互连，其中，所述一个或多个细长构件的各部分跨过所述第一凸缘和所述第二凸缘之间，所述连接区域构造成横穿所述一层或多层组织中的开口或孔；以及

覆盖材料，所述覆盖材料设置在所述一个或多个细长构件的至少一部分上或者周围、通过所述连接区域，以使所述第一凸缘和所述第二凸缘流体连接。

2.如权利要求1所述的吻合装置，其特征在于，所述第一凸缘包括多个瓣，且所述第二凸缘包括多个瓣，所述覆盖材料布置在所述第一凸缘的多个瓣内以及所述第二凸缘的多个瓣内。

3.如权利要求2所述的吻合装置，其特征在于，所述第一凸缘的多个瓣中的一个或多个的轴线与所述第二凸缘的多个瓣的轴线偏离。

4.如权利要求2所述的吻合装置，其特征在于，所述第一凸缘的多个瓣中的一个或多个的轴线与所述第二凸缘的多个瓣的轴线平行。

5.如权利要求1所述的吻合装置，其特征在于，所述第一凸缘和所述第二凸缘中的至少一者包括构造成便于将所述并置力施加至所述组织的表面上的凹入形状。

6.如权利要求5所述的吻合装置，其特征在于，所述第一凸缘和所述第二凸缘中的至少一者的所述凹入形状构造成将所述并置力集中在所述框架的外周界处，以横跨所述第一凸缘和所述第二凸缘分布并置力。

7.如权利要求5所述的吻合装置，其特征在于，所述第一凸缘和所述第二凸缘中的至少一者的所述凹入形状构造成便于适应宽范围的组织厚度。

8.如权利要求1所述的吻合装置，其特征在于，所述覆盖材料构造成与所述框架协作以在所述第一凸缘和所述第二凸缘中的至少一者的外周界边缘处提供周缘密封。