[发明专利]烹饪控制方法、装置、烹饪设备和可读存储介质

权利要求书

1.一种烹饪控制方法，适用于烹饪设备，其特征在于，包括：

根据第一加热功率控制所述烹饪设备运行；

检测在所述第一加热功率下的物料状态参数；

配置与所述物料状态参数匹配的第二加热功率，以控制所述烹饪设备根据所述第二加热功率继续运行。

2.根据权利要求1所述的烹饪控制方法，其特征在于，所述烹饪设备的内腔设置有距离传感器，所述检测在所述第一加热功率下的物料状态参数，具体包括：

根据所述距离传感器的反馈信号检测物料表面高度是否产生变化；

若所述物料表面高度产生变化，则确定所述物料表面高度的变化率，以将所述变化率配置为所述物料状态参数。

3.根据权利要求2所述的烹饪控制方法，其特征在于，

所述距离传感器包括红外传感器、超声波传感器与脉冲光传感器中的任意一种。

4.根据权利要求2所述的烹饪控制方法，其特征在于，所述配置与所述物料状态参数匹配的第二加热功率，以控制所述烹饪设备根据所述第二加热功率继续运行，具体包括：

若所述变化率大于第一阈值，则将第一参考功率值配置为所述第二加热功率；

若所述变化率小于或等于所述第一阈值，且大于或等于第二阈值，则将第二参考功率值配置为所述第二加热功率；

若所述变化率小于所述第二阈值，则将第三参考功率值配置为所述第二加热功率，

其中，所述第一阈值大于所述第二阈值，所述第一参考功率值、所述第二参考功率值与所述第三参考功率值依次增大。

5.根据权利要求4所述的烹饪控制方法，其特征在于，所述第一加热功率大于或等于所述第二加热功率。

6.根据权利要求5所述的烹饪控制方法，其特征在于，所述在根据第一加热功率控制所述烹饪设备运行前，还包括：

检测所述内腔内物料的初始液面与物料容器的上端面之间的关系；

若所述初始液面与所述上端面之间的距离小于或等于距离阈值，则将所述第一参考功率值配置为所述第二加热功率；

若所述距离大于所述距离阈值阈值，则根据所述变化率确定匹配的所述匹配的第二加热功率。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的烹饪控制方法，其特征在于，所述配置与所述物料状态参数匹配的第二加热功率，以控制所述烹饪设备根据所述第二加热功率继续运行，具体还包括：

若检测到所述物料表面高度的变化值大于或等于变化阈值，则从所述第一加热功率切换至所述第二加热功率继续进行加热。

8.根据权利要求2至6中任一项所述的烹饪控制方法，其特征在于，所述配置与所述物料状态参数匹配的第二加热功率，以控制所述烹饪设备根据所述第二加热功率继续运行，具体还包括：

若检测到所述物料表面高度达到高度阈值，则从所述第一加热功率切换至所述第二加热功率继续进行加热。

9.根据权利要求2至6中任一项所述的烹饪控制方法，其特征在于，还包括：

在根据所述第二加热功率控制所述烹饪设备运行的过程中，若检测到所述物料表面高度的变化率小于或等于第三阈值，且持续时长大于或等于时长阈值，则控制停止加热操作。

10.一种烹饪控制装置，其特征在于，包括：存储器和处理器；

所述存储器，用于存储程序代码；

所述处理器，用于调用所述程序代码执行如权利要求1至9中任一项所述的烹饪控制方法。

11.一种烹饪设备，其特征在于，包括：

烹饪腔体；

如权利要求10所述的烹饪控制装置，用于对所述烹饪腔体执行烹饪操作。