[发明专利]部件、制造部件的方法、以及清洁部件的方法

权利要求书

1.一种环，包括：

主体；

气体流动系统，所述气体流动系统设置在所述主体内，所述气体流动系统包括：

弧形凹槽；

周向凹槽，其中所述周向凹槽具有比所述弧形凹槽的半径小的半径；

一个或多个内部通道，所述一个或多个内部通道将所述周向凹槽流体地耦接到所述弧形凹槽；以及

多个喷嘴区域，其中所述多个喷嘴区域设置在所述主体的内表面处，并且各自通过相应的喷嘴通道流体地耦接到所述周向凹槽。

2.如权利要求1所述的环，其中所述气流路径还包括外部通道，并且插塞元件设置在所述外部通道中。

3.如权利要求1所述的环，其中周向凹槽涂层设置在所述周向凹槽的至少一部分上方，并且弧形凹槽涂层设置在所述弧形凹槽的至少一部分上方。

4.如权利要求3所述的环，其中所述周向凹槽涂层和所述弧形凹槽涂层两者都包括镍。

5.如权利要求3所述的环，其中所述主体包括铝(Al)，所述周向凹槽涂层包括阳极化铝，并且所述弧形凹槽涂层包括阳极化铝。

6.如权利要求1所述的环，还包括：

周向凹槽密封元件，其中所述周向凹槽密封元件设置在所述周向凹槽上方以形成第一封闭区域；以及

弧形凹槽密封元件，其中所述弧形凹槽密封元件设置在所述弧形凹槽上方以形成第二封闭区域，

其中所述一个或多个内部通道被配置为将所述第一封闭区域流体地耦接到所述第二封闭区域。

7.如权利要求6所述的环，其中所述周向凹槽密封元件包括周向密封突片，并且所述弧形密封元件包括弧形密封突片。

8.如权利要求6所述的环，其中所述周向凹槽密封元件焊接到所述主体，并且所述弧形凹槽密封元件焊接到所述主体。

9.如权利要求1所述的环，还包括在所述多个喷嘴区域中的每个内的喷嘴。

10.如权利要求9所述的环，其中所述多个喷嘴包括陶瓷材料。

11.一种用于制造环的方法，包括：

在所述环的主体中形成气体流动系统，所述气体流动系统包括：

弧形凹槽；

周向凹槽，其中所述周向凹槽具有比所述弧形凹槽的半径小的半径；

一个或多个内部通道，所述一个或多个内部通道将所述周向凹槽流体地耦接到所述弧形凹槽；以及

多个喷嘴区域，其中所述多个喷嘴区域设置在所述主体的内表面处，并且各自通过相应的喷嘴通道流体地耦接到所述周向凹槽；以及

沉积周向凹槽涂层和弧形凹槽涂层，其中所述周向凹槽涂层设置在所述周向凹槽的至少一部分上方，并且所述弧形凹槽涂层设置在所述弧形凹槽的至少一部分上方。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述气流路径还包括外部通道，所述方法还包括用插塞元件密封所述外部通道。

13.如权利要求11所述的方法，其中所述周向凹槽涂层和所述弧形凹槽涂层各自包括镍(Ni)，并且所述弧形凹槽涂层包括镍(Ni)。

14.如权利要求11所述的方法，其中所述主体包括铝(Al)，并且所述沉积所述周向凹槽涂层和所述弧形凹槽涂层包括对所述周向凹槽和所述弧形凹槽的一部分进行阳极化。

15.如权利要求11所述的方法，还包括将喷嘴放置在所述多个喷嘴区域中的每个内。

16.如权利要求11所述的方法，其中所述沉积所述周向凹槽涂层和所述弧形凹槽涂层包括将所述周向凹槽和所述弧形凹槽暴露于工艺化学物。