[发明专利]蒸发装置和方法

权利要求书

1.一种蒸发装置，其具有：

蒸镀区域（224r）；

用于以距所述蒸镀区域（224r）一间距的方式支承蒸发物的支架（302）；

移位设备（304），所述移位设备设计成将所述支架（302）相对于所述蒸镀区域（224r）移位，所述移位设备（304）朝该蒸镀区域移位和/或远离其移位，移位的方向平行于重力方向，在所述蒸镀区域（224r）中设置和/或输送要覆层的工件（202）；

控制设备（306），所述控制设备设计成基于参数来操控所述移位设备（304），其中所述参数代表所述蒸发物距所述蒸镀区域（224r）的间距；

支撑结构，所述支撑结构相对于所述蒸镀区域（224r）地点固定地设置，所述支撑结构提供停放面，坩埚装置（100）或至少蒸发坩埚（104）能够停放在所述停放面上，其中所述支架（302）的移位经过所述支撑结构进行，使得蒸发坩埚能够借助于所述支架（302）由所述支撑结构接纳和/或停放在所述支撑结构上，其中，在所述蒸发坩埚（104）停放在所述支撑结构上时所述蒸发坩埚（104）与所述支架（302）分开并且在由所述支撑结构接纳所述蒸发坩埚（104）时由所述支架（302）接触所述蒸发坩埚（104），

其中，所述移位设备（304）被设计成使得支架（302）被置于第一位置和第二位置中，在第一位置中，所述支架（302）的支承面沿竖直方向被设置在支撑结构的停放面上方，在第二位置中，所述支架（302）的支承面沿竖直方向被设置在支撑结构的停放面下方，第一位置和第二位置的间距对应于支架移位的幅度；

重量传感器和/或距离传感器，所述重量传感器和/或距离传感器设计成检测所述参数。

2.根据权利要求1所述的蒸发装置，其还具有：用于朝所述支架（302）发射电子束的电子束枪。

3.根据权利要求1或2所述的蒸发装置，其中所述移位设备（304）具有一个或多于一个往复缸机械装置。

4.根据权利要求1或2所述的蒸发装置，其中所述移位设备（304）具有一个或多于一个主轴驱动器。

5.根据权利要求1或2所述的蒸发装置，其中所述支撑结构具有用于支承用于蒸发坩埚的底盘的一个或多于一个引导轨道。

6.根据权利要求1或2所述的蒸发装置，其中所述控制设备（306）设计成当所述参数满足一标准时将所述支架（302）移位，其中所述标准代表最大间距。

7.根据权利要求1或2所述的蒸发装置，其中所述控制设备（306）设计成基于存储的物理量和时间量求出所述参数，其中所述物理量代表进行所述蒸发物的蒸发的速率，并且其中所述时间量代表进行所述蒸发物的蒸发所持续的持续时间。

8.根据权利要求1或2所述的蒸发装置，其中所述参数代表光学图案，所述光学图案在所述蒸发物蒸发时露出。

9.一种真空装置，其具有：

根据权利要求1或2所述的蒸发装置，和

真空室，在所述真空室内部设置所述蒸镀区域（224r）。