[发明专利]样本分析设备及其控制方法

权利要求书

1.一种样本分析设备，其特征在于，包括：

样本承载机构，用于承载容纳有样本的样本容器；

试剂承载机构，包括多个试剂放置位，用于承载多个试剂容器，所述试剂容器用于容纳试剂；

吸液机构，包括驱动部件、移动部件和针部件，所述针部件固定在移动部件上，所述驱动部件驱动移动部件在预设的移动路径上移动，以便带动针部件在竖直方向和水平方向上进行移动，以使针部件在吸液位置、排液位置和清洗位置之间变换位置，所述吸液位置包括吸样本位置或吸试剂位置，所述清洗位置位于清洗池上方；

过零检测机构，用于检测针部件在竖直方向上是否经过预先设定的校准位置；

处理器，用于控制驱动部件的动作，和控制针部件的吸排操作，并在控制针部件每次完成排液操作后上行并经过校准位置。

2.如权利要求1所述的样本分析设备，其特征在于，所述处理器在控制针部件每次完成排液操作后在由排液位置移动到清洗位置的过程中经过校准位置。

3.如权利要求1或2所述的样本分析设备，其特征在于，所述过零检测机构在检测到针部件在竖直方向上经过校准位置时输出触发校准信号至处理器，所述处理器响应于触发校准信号确定是否对驱动部件的驱动参数进行校准。

4.如权利要求3所述的样本分析设备，其特征在于，所述驱动部件包括齿轮，所述处理器响应于触发校准信号确定是否对驱动部件的驱动参数进行校准包括：响应于触发校准信号判断驱动部件是否存在齿轮滞后效应，如果存在，则对驱动部件的驱动参数进行校准。

5.如权利要求1至4中任一项所述的样本分析设备，其特征在于，所述校准位置高于清洗位置，所述处理器控制针部件完成排液操作后由排液位置上行经过清洗垂直位置后到达高于校准位置的预设高度。

6.如权利要求5所述的样本分析设备，其特征在于，所述预设高度为垂直初始位，所述垂直初始位是指样本分析设备进行初始化时所述针部件停止的位置。

7.如权利要求5所述的样本分析设备，其特征在于，所述处理器控制针部件到达预设高度后再水平移动并到达清洗水平位置，然后控制针部件下行移动到清洗垂直位置，从而到达清洗位置。

8.如权利要求7所述的样本分析设备，其特征在于，所述样本分析设备还包括用于对针部件进行清洗的清洗机构，所述清洗机构包括清洗管路和设置在管路上用于控制清洗液流动的泵阀，所述处理器控制针部件在下行移动到清洗垂直位置的过程中控制开启清洗机构的泵阀。

9.如权利要求1至4中任一项所述的样本分析设备，其特征在于，所述校准位置低于清洗位置，所述处理器控制针部件完成排液操作后由排液位置上行经过校准位置到达清洗垂直位置。

10.一种样本分析设备，其特征在于，包括：

样本承载机构，用于承载容纳有样本的样本容器；

试剂承载机构，包括多个试剂放置位，用于承载多个试剂容器，所述试剂容器用于容纳试剂；

吸液机构，包括驱动部件、移动部件和针部件，所述针部件固定在移动部件上，所述驱动部件驱动移动部件在预设的移动路径上移动，以便带动针部件在竖直方向和水平方向上进行移动，以使针部件在吸液位置、排液位置和清洗位置之间变换位置，所述吸液位置包括吸样本位置或吸试剂位置，所述清洗位置位于清洗池上方；

到位检测机构，用于检测针部件是否上行到达清洗位置的清洗垂直位置，当检测到针部件到达清洗垂直位置时，输出到位触发信号；

处理器，用于控制驱动部件的动作，和控制针部件的吸排操作和每次完成排液操作后的上行运动，并响应于所述到位触发信号控制针部件停止上行。

11.一种样本分析设备的控制方法，其特征在于，包括：

控制针部件在排液位置进行排液操作；

控制针部件在每次完成排液操作后上行并经过校准位置。