[发明专利]载放射性核素微纳米涂层支架及其制备方法

权利要求书

1.一种载放射性核素微纳米涂层支架，包括中空管状结构的支架本体（3），其特征在于：支架本体（3）外表面通过超声喷涂、静电喷涂或化学电镀有放射核素涂层（2），放射核素涂层（2）外表面喷涂有疏水涂层（1）。

2.根据权利要求1所述载放射性核素微纳米涂层支架，其特征在于：放射核素涂层（2）为碘125溶液或¹⁰³Pd溶液。

3.根据权利要求1所述载放射性核素微纳米涂层支架，其特征在于：疏水涂层（1）为PTFE、PU或氟化聚乙烯，通过超声喷涂或静电喷涂的方式附着在放射性核素微涂层外面。

4.根据权利要求1所述载放射性核素微纳米涂层支架，其特征在于：支架本体为直径8~10mm、长度40nm~160mm的金属裸支架或覆膜支架。

5.根据权利要求1所述载放射性核素微纳米涂层支架，其特征在于：放射核素涂层（2）的厚度δ= ，δ-涂层厚度（mm），W为释放低能量射线需要的量，g放射核素溶液的浓度，D为支架本体直径（mm），d为涂层长度（mm），η摩擦系数0.5-1.2，t为时间。

6.根据权利要求1所述载放射性核素微纳米涂层支架，其特征在于：疏水涂层（1）厚度为0.2-0.3mm。

7.一种载放射性核素微纳米涂层支架制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：对支架本体（3）表面进行清洗处理并进行干燥处理；

S2：通过超声喷涂、静电喷涂或化学电镀在支架本体（3）中部喷涂含有放射核素的溶液达到内照射的剂量；

S3：在支架本体其他部分喷涂含有放射核素的溶液至支架释放低量能射线所需剂量，并对支架进行干燥处理；

S4：采取超声喷涂或静电喷涂的方法在支架表面喷涂疏水涂层（1），支架制备完成后置于铅容器内备用。