[发明专利]一种塞来昔布中氧化偶氮苯残留检测的方法

说明书

本发明公开了一种塞来昔布中氧化偶氮苯杂质残留检测的LC‑MS/MS方法，该方法采用反相C18柱，以甲醇‑甲酸‑乙酸铵为流动相，进行等梯度洗脱6min，柱温40℃，流速为每分钟0.65mL，柱后分流6:4进行LC‑MS/MS测定；质谱条件为电喷雾正离子化(ESI⁺)测定喷口电压4000V，雾化温度100℃，吹扫气压力0.5psi，鞘气压力35psi，辅助气压力5psi，毛细管温度350℃，碰撞气氩气压力1.2mTorr。用于定量的[M+H]⁺离子反应监测如下：

Analyte	Exact mass	SRM	Collision Energy	Tube Lens
氧化偶氮苯	198.225	199.070→77.180	26	76

本方法可对塞来昔布中氧化偶氮苯杂质残留进行快速准确的定性和定量分析，从而保证了塞来昔布的质量、提高临床用药的安全性。

技术领域

本发明属于药物分析领域，具体涉及一种塞来昔布中氧化偶氮苯杂质残留检测的LC-MS/MS方法。

背景技术

塞来昔布（Celecoxib），即4-[5-(4-甲基苯基)-3-(三氟甲基)-1H-吡唑-1-基]苯磺酰胺，其分子式为C₁₇H₁₄F₃N₃O₂S，分子量为381.38，pKa值为11.1。塞来昔布（Celecoxib）是美国西尔公司开发的第一个特异性环氧合酶-2（COX-2）抑制剂，用于骨关节炎和类风湿性关节炎的治疗，是目前全球处方量最大的非甾体抗炎镇痛药。

基因毒性杂质是指能够引起DNA突变、染色体断裂或DNA重组的物质，这类物质还可能导致人类肿瘤的发生。基因毒性杂质主要来源于原料药合成过程中的起始原料、中间体、试剂和反应副产物，此外，药物在合成、储存或制剂过程中也可能会降解产生基因毒性杂质。

塞来昔布的制备工艺以苯胺为原料合成，而苯胺由硝基苯还原而得，硝基苯在还原反应中易产生氧化偶氮苯，为关注队列基因警示结构。塞来昔布原料药生产过程中可能存在氧化偶氮苯杂质，该化合物结构与已知基因毒性杂质有类似性，需对其进行限度控制。塞来昔布最大日暴露量可达600mg，根据TTC（人体摄入量不得超过每人每天1.5μg）规定计算氧化偶氮苯限度为2.5ppm，因此我们建立了塞来昔布原料药中氧化偶氮苯杂质残留的LC-MS/MS方法，可以更好的控制塞来昔布原料药的质量，更好地对塞来昔布原料药中可能存在的氧化偶氮苯杂质进行检测。。

发明内容