[发明专利]显示面板及其制备方法

说明书

本申请公开了一种显示面板，其包括衬底基板和设置于所述衬底基板上的阵列层；所述阵列层包括位于所述衬底基板上方的栅极层；所述栅极层包括第一导电金属层以及依次层叠设置于所述第一导电金属层上的第一钼合金层和第一氧化钼合金层。利用设置于所述第一导电金属层上方的第一氧化钼合金层以降低栅极层的表面的光反射率，利用设置于所述第二导电金属层上方的第二氧化钼合金层降低源极和漏极的表面的光反射率，从而防止产品的光反射率偏高影响视觉效果，同时通过第一钼合金层防止第一导电金属层与第一氧化钼合金层之间发生电偶腐蚀，通过第二钼合金层防止第二导电金属层与第二氧化钼合金层之间发生电偶腐蚀。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

现在大尺寸显示面板产品中的导电层(如栅极)一般采用Cu等金属制成，可见光在Cu膜表面的反射率达到90％，而Cu膜在上方没有遮挡，可见光到达Cu膜表面时会发生反射，从而导致产品的反射率偏高，影响视觉效果。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板，以解决现有的显示面板中，导电层一般采用Cu等金属制成，而Cu膜在上方没有遮挡，可见光到达Cu膜表面时会发生反射，从而导致产品的反射率偏高，影响视觉效果的技术问题。

一种显示面板，其包括衬底基板和设置于所述衬底基板上的阵列层；所述阵列层包括位于所述衬底基板上方的栅极层；

其中，所述栅极层包括第一导电金属层以及依次层叠设置于所述第一导电金属层上的第一钼合金层和第一氧化钼合金层。

在一些实施例中，所述第一钼合金层覆盖所述第一导电金属层，所述第一氧化钼合金层覆盖所述第一钼合金层。

在一些实施例中，所述第一氧化钼合金层的厚度小于或等于所述第一钼合金层的厚度。

在一些实施例中，所述栅极层还包括设置于所述第一导电金属层与所述衬底基板之间的第一缓冲层，所述第一缓冲层位于所述衬底基板上，所述第一导电金属层设置于所述第一缓冲层上。

在一些实施例中，所述阵列层还包括：

覆盖所述栅极层的栅极绝缘层；

设置于所述栅极绝缘层上的有源层以及与所述有源层电连接的源漏金属层；

覆盖所述有源层和源漏金属层的钝化层；

设置于所述钝化层上的像素电极层；

其中，所述源漏金属层包括位于所述钝化层上的第二缓冲层、位于所述第二缓冲层上的第二导电金属层以及依次层叠设置于所述第二导电金属层上的第二钼合金层和第二氧化钼合金层。

在一些实施例中，所述像素电极层通过一贯穿所述钝化层和所述第二氧化钼合金层的通孔与所述第二钼合金层触接。

在一些实施例中，所述第一钼合金层和第二钼合金层的制备材料均包括钛、镍、钽、钨和铌中的至少一种。

本发明还提供一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：

S10、在衬底基板上形成阵列层；

其中，所述步骤S10包括：

S11、在所述衬底基板上方形成第一导电金属层；

S12、在所述第一导电金属层上形成依次层叠设置的第一钼合金层和第一氧化钼合金层。

在一些实施例中，所述步骤S12包括：

S121、使用钼合金在所述第一导电金属层上形成第一钼合金膜层；

S122、对第一钼合金膜层的表面进行氧化处理，以形成预定厚度的第一氧化钼合金层。