[发明专利]一种SRAM单粒子瞬态效应仿真分析方法及系统有效
申请号: | 201911283331.X | 申请日: | 2019-12-13 |
公开(公告)号: | CN110991072B | 公开(公告)日: | 2022-09-20 |
发明(设计)人: | 刘毅;翁笑冬;范凌怡;杨银堂 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 胡乐 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 sram 粒子 瞬态 效应 仿真 分析 方法 系统 | ||
本发明提供一种SRAM单粒子瞬态效应仿真分析方法及系统,能够支持SRAM混合仿真,将器件级的仿真信息加入电路级的仿真中,进行单粒子效应仿真分析。该方法包括:分析SRAM单元器件结构模型加入单粒子效应物理模型,提取单粒子效应电流源脉冲;建立多LET单粒子效应脉冲电流源等效模型并生成SPICE可以使用的仿真模型;根据用户提供的SRAM电路网表文件提取SRAM中的所有敏感节点,生成SRAM敏感节点列表文件;依据前面生成的SPICE可用的多LET单粒子效应脉冲电流源等效模型,结合SRAM敏感电路节点列表文件,编写脚本随机选取SRAM节点和故障注入时间,生成故障注入文件;分别计算翻转阈值和翻转截面。
技术领域:
本发明属于辐射效应仿真领域,涉及一种单粒子效应下SRAM翻转截面仿真的方法。
背景技术:
随着半导体工艺特征尺寸的持续减小和器件工作频率不断提高,SRAM中的单粒子瞬态(SEU)引发的软错误数不断上升。因此需要一种仿真方法来评估SRAM的单粒子效应。对此提出一种新的方法来评估SRAM的翻转阈值和翻转截面。
目前,针对SRAM进行单粒子效应仿真的一种方法是,通过加入一个方波脉宽来对电路进行仿真测试。但是这种仿真无法准确的仿真出单粒子效应的影响,依照经典理论,NMOS晶体管的辐射效应的影响可以等效为一个双指数电流源脉冲。脉冲的波形与器件参数和单粒子入射的物理参数相关,但是该模型不适用于SRAM的辐射分析。
发明内容
本发明提供一种单粒子效应下SRAM翻转截面仿真的方法及系统,能够对单粒子效应下的SRAM翻转截面进行分析。
本发明的解决方案如下:
一种SRAM单粒子瞬态效应仿真分析方法,包括:
根据用户提供的SRAM单元器件结构模型(即SRAM的版图),结合单粒子注入物理模型,提取单粒子效应电流源脉冲;
分析所述单粒子效应电流源脉冲,建立多LET脉冲电流源模型并生成SPICE可以使用的仿真模型激励文件;
根据用户提供的SRAM电路网表文件(即SRAM的SPICE描述文件)提取SRAM中的所有敏感节点,生成SRAM敏感节点列表文件;
根据所述多LET脉冲电流源模型(仿真模型激励文件),结合所述SRAM敏感节点列表文件,编写脚本随机选取SRAM节点和故障注入时间,生成用于翻转阈值分析和翻转截面计算的故障注入文件;其中,用于翻转阈值分析的故障注入文件包含一个注入节点的节点信息、故障注入时间和故障注入模型,用于翻转截面计算的故障注入文件包含多个注入节点的节点信息、故障注入时间和故障注入模型;
读取故障注入文件和SRAM单元器件结构模型,利用SPICE进行仿真,分析注入不同LET值对应的脉冲电流源后的响应情况,确定翻转阈值;
读取用户提供的SRAM电路网表文件、故障注入文件,通过随机选择电路节点与峰值比例系数,在不同的LET值下进行多次仿真,统计每个LET下的平均错误个数,计算出不同LET下的SRAM的翻转截面。
其中具体可优选地,所述建立多LET脉冲电流源模型,采用了样条插值的方法将采样点插值为平滑曲线,并使用Weibull函数进行参数拟合。
其中具体可优选地,所述生成用于翻转阈值分析和翻转截面计算的故障注入文件,具体是根据用户选定的LET值,在所述仿真模型激励文件中选定所需的脉冲电流源模型,添加随机电路节点(node)、随机注入时间(time)以及随机电流峰值和脉宽函数(factor),其中随机电流峰值和脉宽函数(factor)为正态分布的随机函数。
一种SRAM单粒子瞬态效应仿真分析系统,包括:
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