[发明专利]衬底处理装置及衬底搬送方法

说明书

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。本发明的衬底处理装置依序配置着ID块(2)、涂布块(3)、显影块(4)及IF块(6)。在ID块(2)上设有载置台(13)，在IF块(6)上设有载置台(47)。以往，仅在ID块上设有载具载置台。因此，在去路及返路这两个路径中，在ID块与IF块之间搬送衬底。根据本发明，在返路中，将衬底(W)从IF块(6)搬送到显影块(4)之后，不搬送到涂布块(3)，而将衬底(W)从显影块(4)移回到IF块(6)。因此，由于在返路中，削减了利用涂布块(3)进行的搬送工序，结果，能够提高衬底处理装置(1)整体的处理量。

技术领域

本发明涉及一种对衬底进行处理的衬底处理装置及该衬底的搬送方法。衬底例如可以列举半导体衬底、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用衬底、光掩模用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、陶瓷衬底及太阳电池用衬底等。FPD例如可以列举液晶显示装置、有机EL(electroluminescence，电致发光)显示装置等。

背景技术

以往的衬底处理装置依序具备装载块(以下适当称为“ID块”)、涂布块、显影块、接口块(以下适当称为“IF块”)(例如参照日本专利特开2010-219434号公报)。

在ID块上设有载具载置台。ID块从载置在载具载置台上的载具取出衬底，并将所取出的衬底搬送到涂布块。涂布块进行例如抗蚀剂等的涂布处理。显影块对进行了曝光处理的衬底进行显影处理。IF块对曝光装置进行衬底的搬出及搬入。

另外，衬底处理装置具备存放装置(载具缓冲装置)(例如参照日本专利特开2011-187796号公报)。存放装置具备用于保管载具的保管架及载具搬送机构。

发明内容

[发明要解决的问题]

然而，所述衬底处理装置存在如下问题。衬底处理装置按照ID块、涂布块、显影块、IF块的顺序(去路)搬送衬底。此时，涂布块对衬底进行涂布处理，但显影块不对衬底进行显影处理。另外，衬底处理装置按照IF块、显影块、涂布块、ID块的顺序(返路)搬送经曝光处理的衬底。此时，涂布块不对衬底进行涂布处理，但显影块对衬底进行显影处理。这种在ID块与IF块之间往复进行的衬底搬送伴有不进行处理而单纯地使衬底通过块的过程。因此，有使去路与返路各自的处理量降低的担忧。

本发明是鉴于这种情况完成的，目的在于提供一种能够提高处理量的衬底处理装置及衬底搬送方法。

[解决问题的技术手段]

本发明为了达成这种目的，采用如下构成。即，本发明的对衬底进行处理的衬底处理装置包含以下要素：多个处理块，配置成一列，且具有至少1个一端侧的处理块及至少1个另一端侧的处理块；装载块，与所述多个处理块中的一端的处理块连结，且设有用于载置能够收纳多个衬底的载具的第1载具载置台；及接口块，与所述多个处理块中的另一端的处理块连结，针对外部装置进行衬底的搬入及搬出，且设有用于载置所述载具的第2载具载置台；所述装载块从载置在所述第1载具载置台上的所述载具取出衬底，并将所取出的衬底输送到所述一端侧的处理块，所述一端侧的处理块对输送来的衬底进行预先设定的处理，所述另一端侧的处理块将由所述一端侧的处理块处理后的衬底输送到所述接口块，所述接口块将由所述一端侧的处理块处理后的衬底搬出到所述外部装置，所述接口块从所述外部装置搬入衬底，且将由所述外部装置处理后的衬底输送到所述另一端侧的处理块，所述另一端侧的处理块对从所述接口块输送来的衬底进行预先设定的处理，所述接口块将由所述另一端侧的处理块处理后的衬底移回到载置在所述第2载具载置台上的所述载具。