[发明专利]一种多芯片集成封装结构在审

专利信息
申请号: 201911294226.6 申请日: 2019-12-16
公开(公告)号: CN111106078A 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 侯红伟 申请(专利权)人: 山东砚鼎电子科技有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L21/60;H01L25/065
代理公司: 北京华际知识产权代理有限公司 11676 代理人: 叶宇
地址: 250000 山东省济南市历城区*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 集成 封装 结构
【权利要求书】:

1.一种垂直型多芯片集成封装结构,包括:

第一封装基板,具有相对的上表面和下表面;

多芯片封装体,其通过设置于所述上表面上,且所述多芯片封装体通过其内部的第一再布线层电连接至所述第一封装基板;

塑封树脂,形成于所述上表面上,且包裹所述多芯片封装体;

其特征在于,所述多芯片封装体还包括板状的多个单芯片封装体,所述单芯片封装体的每一个均包括一顶面、一底面和四个侧面,所述四个侧面中的第一侧面具有第一引出端子,所述第一引出端子与所述第一再布线层直接物理以及电连接,所述单芯片封装体的每一个均垂直于所述第一再布线层和所述第一封装基板。

2.根据权利要求1所述的垂直型多芯片集成封装结构的制造方法,其特征在于:所述单芯片封装体的每一个均包括:

芯片;

塑封层,包覆所述芯片的侧表面的;

钝化层,覆盖所述芯片和所述塑封层的上表面;

所述第一引出端子,嵌入于所述塑封层内,且从所述单芯片封装体的四个侧面的至少一个侧面露出;

导电层,其形成于所述钝化层上,且电连接所述芯片和所述第一引出端子;

聚合物层,其覆盖所述导电层,且所述聚合物层内无任何开口或通孔结构。

3.根据权利要求2所述的垂直型多芯片集成封装结构,其特征在于:所述聚合物层为热塑性树脂材料、水溶性塑料等,所述多芯片封装体由多个单芯片封装体利用各自的聚合物层直接粘合得到,无需其他粘合层。

4.根据权利要求3所述的垂直型多芯片集成封装结构,其特征在于:所述四个侧面中的第二侧面也具有第二引出端子。

5.根据权利要求4所述的垂直型多芯片集成封装结构,其特征在于:所述第二侧面与所述第一侧面相对设置,且在所述第二侧面具有与所述第二引出端子直接物理以及电连接的第二再布线层,所述第二再布线层电连接至第二封装基板。

6.根据权利要求4所述的垂直型多芯片集成封装结构,其特征在于:所述第二侧面与所述第一侧面相邻设置,且所述第二引出端子通过焊线电连接至所述第一封装基板。

7.一种多芯片集成封装结构,包括:

封装基板,具有相对的上表面和下表面;

多芯片封装体,其设置于所述上表面上,其中,所述多芯片封装体包括板状的多个单芯片封装体,所述单芯片封装体的每一个均包括一顶面、一底面和四个侧面,所述四个侧面均具有引出端子且均垂直于所述封装基板;

塑封树脂,形成于所述上表面上,且包裹所述多芯片封装体;

多个通孔,形成于所述塑封树脂内,且电连接所述引出端子;

多个焊盘,形成于所述塑封树脂的侧面上,且与所述多个通孔分别电连接;

再布线层,形成于所述塑封树脂的侧面上,且实现多个焊盘之间、多个焊盘与所述封装衬底之间的电互连。

8.根据权利要求7所述的多芯片集成封装结构,其特征在于:还包括粘合层,所述粘合层将所述多芯片封装体粘合于所述封装基板的上表面,且所述再布线层的至少一部分从所述粘合层上延伸经过。

9.根据权利要求7所述的多芯片集成封装结构,其特征在于:所述再布线层通过3D打印技术制造得到,实现了横向和纵向电连接的一步形成。

10.根据权利要求7所述的垂直型多芯片集成封装结构的制造方法,其特征在于:所述单芯片封装体的每一个均包括:

芯片;

塑封层,包覆所述芯片的侧表面的;

钝化层,覆盖所述芯片和所述塑封层的上表面;

所述引出端子,嵌入于所述塑封层内,且从所述单芯片封装体的四个侧面露出;

导电层,其形成于所述钝化层上,且电连接所述芯片和所述引出端子;

聚合物层,其覆盖所述导电层,且所述聚合物层内无任何开口或通孔结构;

其中,所述多芯片封装体由多个单芯片封装体利用各自的聚合物层直接粘合得到,无需其他粘合层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东砚鼎电子科技有限公司,未经山东砚鼎电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911294226.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top