[发明专利]基片液处理装置

权利要求书

1.一种基片液处理装置，其特征在于，包括：

处理槽，其贮存用于对多个基片实施液处理的处理液；

基片支承部，其在所述处理槽内，以所述多个基片各自的主面沿铅垂方向的方式支承所述多个基片；

处理液排出部，其设置在比由所述基片支承部支承的所述多个基片靠下方处，通过将所述处理液排出到所述处理槽内来生成上升流；和

在侧方空间中调节所述处理液的液流的整流部，其中所述侧方空间形成在所述处理槽的第1侧壁与所述多个基片中具有和所述第1侧壁相对的主面的第1基片之间。

2.如权利要求1所述的基片液处理装置，其特征在于：

所述整流部具有设置在所述第1侧壁的、排出所述处理槽内的所述处理液的第1排出孔。

3.如权利要求2所述的基片液处理装置，其特征在于：

所述第1排出孔与所述第1基片的上端部相对地设置。

4.如权利要求2或者3所述的基片液处理装置，其特征在于：

还包括具有第2排出孔的第2整流部，其中所述第2排出孔设置在与所述处理槽的所述第1侧壁连接的第2侧壁，排出所述处理槽内的所述处理液。

5.如权利要求1～3中任一项所述的基片液处理装置，其特征在于：

所述整流部具有配置在所述侧方空间的板状部件，

所述板状部件与所述第1基片和所述第1侧壁隔开间隔，

所述板状部件的一个主面是与所述第1基片相对的相对面。

6.如权利要求4所述的基片液处理装置，其特征在于：

所述整流部具有配置在所述侧方空间的板状部件，

所述板状部件与所述第1基片和所述第1侧壁隔开间隔，

所述板状部件的一个主面是与所述第1基片相对的相对面。

7.如权利要求5所述的基片液处理装置，其特征在于：

所述第1基片与所述板状部件的间隔比所述板状部件与所述第1侧壁的间隔小。

8.如权利要求5所述的基片液处理装置，其特征在于：

所述整流部具有将所述板状部件固定在所述处理槽的固定部。

9.如权利要求7所述的基片液处理装置，其特征在于：

所述整流部具有将所述板状部件固定在所述处理槽的固定部。

10.如权利要求5所述的基片液处理装置，其特征在于：

所述基片支承部沿所述铅垂方向和与所述第1基片的主面交叉的方向延伸来从下方支承所述多个基片，

所述板状部件被固定于所述基片支承部。

11.如权利要求7所述的基片液处理装置，其特征在于：

所述基片支承部沿所述铅垂方向和与所述第1基片的主面交叉的方向延伸来从下方支承所述多个基片，

所述板状部件被固定于所述基片支承部。

12.如权利要求5所述的基片液处理装置，其特征在于：

所述基片支承部沿所述铅垂方向和与所述第1基片的主面交叉的方向延伸来从下方支承所述多个基片，

所述整流部具有用于固定所述板状部件的固定部，

所述板状部件包括：通过所述固定部固定于所述处理槽的第1分隔部件；和固定于所述基片支承部的第2分隔部件，

所述第1分隔部件构成所述相对面的一部分，

所述第2分隔部件构成所述相对面的其他部分。