[发明专利]基片液处理装置在审

申请号：	201911299983.2	申请日：	2019-12-17
公开（公告）号：	CN111383958A	公开（公告）日：	2020-07-07
发明（设计）人：	大津孝彦;高山和也;稻田尊士	申请（专利权）人：	东京毅力科创株式会社
主分类号：	H01L21/67	分类号：	H01L21/67
代理公司：	北京尚诚知识产权代理有限公司 11322	代理人：	龙淳;刘芃茜
地址：	日本***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	基片液处理装置
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【说明书】：

本发明提供一种基片液处理装置。本发明的一个方面的基片液处理装置包括：处理槽，其贮存用于对多个基片实施液处理的处理液；基片支承部，其在处理槽内，以多个基片各自的主面沿铅垂方向的方式支承多个基片；处理液排出部，其设置在比由基片支承部支承的多个基片靠下方处，通过将处理液排出到处理槽内来生成上升流；和在侧方空间中调节处理液的液流的整流部，其中侧方空间形成在处理槽的第1侧壁与多个基片中具有和第1侧壁相对的主面的第1基片之间。本发明对基片液处理时的基片面内的处理的均匀性有效的。

技术领域

本发明涉及基片液处理装置。

背景技术

专利文献1公开了一种通过在收纳药液的处理槽中支承基片，对该基片实施药液处理的基片液处理装置。在该基片液处理装置中，处理槽由树脂材料形成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-10709号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

本发明提供一种在基片液处理时的基片面内的处理的均匀性有效的基片液处理装置。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的一个方面的基片液处理装置包括：处理槽，其贮存用于对多个基片实施液处理的处理液；基片支承部，其在处理槽内，以多个基片各自的主面沿铅垂方向的方式支承多个基片；处理液排出部，其设置在比由基片支承部支承的多个基片靠下方处，通过将处理液排出到处理槽内来生成上升流；和在侧方空间中调节处理液的液流的整流部，其中侧方空间形成在处理槽的第1侧壁与多个基片中具有和第1侧壁相对的主面的第1基片之间。本发明对基片液处理时的基片面内的处理的均匀性有效的。

发明效果

依照本发明，能够提供一种在基片液处理时的基片面内的处理的均匀性有效的基片液处理装置。

附图说明

图1是示意性地例示第1实施方式的基片液处理系统的俯视图。

图2是例示基片液处理装置的示意图。

图3是例示基片液处理装置的结构的示意性的立体图。

图4是例示基片液处理装置的结构的示意性的侧视图。

图5是例示基片液处理装置的结构的示意性的主视图。

图6是例示第2实施方式的基片液处理系统的基片液处理装置的结构的示意性的侧视图。

图7是例示基片液处理装置的结构的示意性的主视图。

图8是例示基片液处理装置的结构的示意性的俯视图。

图9是表示基片液处理装置的结构的另一例的示意性的侧视图。