[发明专利]一种卤水除杂装置及除杂工艺

权利要求书

1.一种卤水除杂装置，其特征在于：包括筒形壳体(1)、导流筒(2)，以及搅拌装置(3)，

所述筒形壳体(1)由上部的圆筒段壳体(11)以及下部的锥形段壳体(12)连接构成，所述锥形段壳体(12)的底部设有盐泥出口(121)，且通过阀门控制开闭，

所述导流筒(2)的直径小于圆筒段壳体(11)的内径，导流筒(2)设置在圆筒段壳体(11)的下部，且导流筒(2)的下端开口与锥形段壳体(12)之间具有间隔距离，

所述搅拌装置(3)的搅拌叶片设置在导流筒(2)的内空，用于混匀导流筒内空的液体，且驱动液体向下流动，

所述圆筒段壳体(11)的上部设置卤水溢流口(4)，

所述筒形壳体(1)上设置卤水输送管(5)，卤水输送管(5)的出料口位于导流筒(2)内空的上部，

所述筒形壳体(1)上设置除杂剂输送管(6)，除杂剂输送管(6)的出料口为多个，沿导流筒(2)的圆周均匀分布，位于导流筒(2)内空的下部。

2.根据权利要求1所述的卤水除杂装置，其特征在于：所述导流筒(2)与圆筒段壳体(11)同心设置，导流筒(2)的外周与圆筒段壳体(11)的内壁具有间隔空间，形成环形的回流通道(7)。

3.根据权利要求1所述的卤水除杂装置，其特征在于：所述卤水溢流口(4)的数量为八个，均分360°圆周。

4.根据权利要求1所述的卤水除杂装置，其特征在于：所述圆筒段壳体(11)的内空呈上部为大径段、下部为小径段的阶梯状，所述导流筒(2)位于圆筒段壳体(11)的小径段中，所述卤水溢流口(4)与圆筒段壳体(11)的大径段连通。

5.根据权利要求4所述的卤水除杂装置，其特征在于：所述圆筒段壳体(11)的大径段和小径段之间通过一锥状壳体连接，锥状壳体的大口端朝上，锥状壳体的小口端朝下。

6.根据权利要求1所述的卤水除杂装置，其特征在于：还包括膜过滤器，所述膜过滤器的进料口与卤水溢流口(4)通过泵连通，膜过滤器的杂质液出口与卤水输送管(5)相连。

7.采用权利要求1-5任一卤水除杂装置除杂的工艺，其特征在于，具有以下步骤：

1)向筒形壳体内添加卤水，至卤水的液面高度不低于导流筒的上端开口，然后添加杂质晶体作为晶种，至筒形壳体内卤水的杂质晶体固含量为0.2-1.2％，杂质晶体为碳酸钙和氢氧化镁的混合物；

2)启动搅拌装置，经卤水输送管向导流筒内空上部加入卤水，经除杂剂输送管向导流筒内空下部加入除杂剂，除杂剂为碳酸钠溶液和氢氧化钠溶液的混合物；

3)除杂剂与卤水混合，生成过饱和溶液，且由导流筒的下端开口流出、导流筒的上端开口流入形成循环；

4)过饱和溶液与杂质晶体碰撞，析出大颗粒晶体，大颗粒晶体沉积在锥形段壳体的底部，开启阀门排出，澄清的溶液由卤水溢流口排出，得到除杂卤水。

8.根据权利要求7所述的工艺，其特征在于：步骤4)沉积的大颗粒晶体经阀门排出后过滤，滤饼作为步骤1)的晶种。

9.根据权利要求7所述的工艺，其特征在于：步骤2)除杂剂中碳酸钠的浓度为10-100g/l，氢氧化钠的浓度为50-300g/l。

10.根据权利要求7所述的工艺，其特征在于：步骤2)加入的卤水在筒形壳体内停留的时间≥300min。