[发明专利]一种卤水除杂装置及除杂工艺有效
申请号: | 201911304971.4 | 申请日: | 2019-12-17 |
公开(公告)号: | CN110923742B | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 陈云海;廖晓鹏;周秀;何涛;龙伟 | 申请(专利权)人: | 重庆天原化工有限公司 |
主分类号: | C25B1/46 | 分类号: | C25B1/46;C25B15/08 |
代理公司: | 重庆飞思明珠专利代理事务所(普通合伙) 50228 | 代理人: | 刘念芝 |
地址: | 40800*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 卤水 装置 杂工 | ||
一种卤水除杂装置,包括筒形壳体、导流筒,以及搅拌装置,所述筒形壳体由上部的圆筒段壳体以及下部的锥形段壳体连接构成,所述锥形段壳体的底部设有盐泥出口,且通过阀门控制开闭,所述导流筒的直径小于圆筒段壳体的内径,导流筒设置在圆筒段壳体的下部,且导流筒的下端开口与锥形段壳体之间具有间隔距离,所述搅拌装置的搅拌叶片设置在导流筒的内空,用于混匀导流筒内空的液体,且驱动液体向下流动,所述圆筒段壳体的上部设置卤水溢流口,所述筒形壳体上设置卤水输送管,卤水输送管的出料口位于导流筒内空的上部,所述筒形壳体上设置除杂剂输送管,除杂剂输送管的出料口为多个,沿导流筒的圆周均匀分布,位于导流筒内空的下部。
技术领域
本发明涉及化工领域,特别涉及一种卤水除杂装置及除杂工艺。
背景技术
大部分氯碱生产企业采用卤水替代工业盐作为原料,以降低氯碱生产的成本。由于卤水中钙镁离子浓度远大于工业盐配置的盐水,因此需要将卤水中的钙镁离子去除。
传统的除杂工艺是将碳酸钠、氢氧化钠直接与卤水混合,生成碳酸钙和氢氧化镁沉淀,再通过过滤去除沉淀。然而,在卤水环境中,生成的碳酸钙、氢氧化镁的颗粒太小,形成胶体状沉淀物,胶体状沉淀物在进行板框压滤时的过滤速度较慢,滤饼的含水量较高,甚至无法成型,导致滤饼的后续处置难度较大,此外,造成盐水损失,提高了制碱的盐耗。
因此,如何高效去除卤水中的钙镁离子杂质,是本领域技术人员亟待解决的问题。
发明内容
本发明的目的之一是针对现有技术的不足,提供一种卤水除杂装置,其结构简单、操作方便,可高效除去卤水中的钙镁离子,满足氯碱生产企业的原料需求。
本发明的目的之二是提供一种除杂工艺,其操作方便、除杂成本低,可高效除去卤水中的钙镁离子,满足氯碱生产企业的原料需求。
实现本发明目的之一的技术方案是:一种卤水除杂装置,包括筒形壳体、导流筒,以及搅拌装置,所述筒形壳体由上部的圆筒段壳体以及下部的锥形段壳体连接构成,所述锥形段壳体的底部设有盐泥出口,且通过阀门控制开闭,所述导流筒的直径小于圆筒段壳体的内径,导流筒设置在圆筒段壳体的下部,且导流筒的下端开口与锥形段壳体之间具有间隔距离,所述搅拌装置的搅拌叶片设置在导流筒的内空,用于混匀导流筒内空的液体,且驱动液体向下流动,所述圆筒段壳体的上部设置卤水溢流口,所述筒形壳体上设置卤水输送管,卤水输送管的出料口位于导流筒内空的上部,所述筒形壳体上设置除杂剂输送管,除杂剂输送管的出料口为多个,沿导流筒的圆周均匀分布,位于导流筒内空的下部。
所述导流筒与圆筒段壳体同心设置,导流筒的外周与圆筒段壳体的内壁具有间隔空间,形成环形的回流通道。
所述卤水溢流口的数量为八个,均分360°圆周。
所述圆筒段壳体的内空呈上部为大径段、下部为小径段的阶梯状,所述导流筒位于圆筒段壳体的小径段中,所述卤水溢流口与圆筒段壳体的大径段连通。
所述圆筒段壳体的大径段和小径段之间通过一锥状壳体连接,锥状壳体的大口端朝上,锥状壳体的小口端朝下。
还包括膜过滤器,所述膜过滤器的进料口与卤水溢流口通过泵连通,膜过滤器的杂质液出口与卤水输送管相连。
实现本发明目的之二的技术方案是:采用上述任一卤水除杂装置除杂的工艺,具有以下步骤:
1)向筒形壳体内添加卤水,至卤水的液面高度不低于导流筒的上端开口,然后添加杂质晶体作为晶种,至筒形壳体内卤水的杂质晶体固含量为0.2-1.2%,杂质晶体为碳酸钙和氢氧化镁的混合物;
2)启动搅拌装置,经卤水输送管向导流筒内空上部加入卤水,经除杂剂输送管向导流筒内空下部加入除杂剂,除杂剂为碳酸钠溶液和氢氧化钠溶液的混合物;
3)除杂剂与卤水混合,生成过饱和溶液,且由导流筒的下端开口流出、导流筒的上端开口流入形成循环;
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