[发明专利]溶解臭氧去除单元、包括该溶解臭氧去除单元的基板处理装置以及基板处理方法

说明书

本发明构思涉及一种溶解臭氧去除单元，包括该溶解臭氧去除单元的基板处理装置以及一种基板处理方法。溶解臭氧去除单元包括：流体通道提供构件，其具有供处理液通过的流体通道；以及光源构件，其被安装在该流体通道提供构件中并向处理液供应紫外线，并且流体通道提供构件包括螺旋流体通道，该螺旋流体通道被构造为使得处理液在围绕光源构件螺旋移动的同时暴露于紫外线。

技术领域

本文中所描述的发明构思的实施例涉及一种用于去除在处理基板的过程中所使用的处理液中的溶解臭氧的溶解臭氧去除单元，包括该溶解臭氧去除单元的基板处理装置以及基板处理方法。

背景技术

通常，在制造平板显示设备或半导体元件的过程中，执行诸如光刻胶涂覆工艺、显影工艺、蚀刻工艺、灰化工艺等各种工艺以处理玻璃基板或晶片。

特别地，由于半导体元件的高密度、高集成度以及高性能，电路图案的按比例缩小迅速进行。因此，残留在基板上的诸如颗粒、有机污染物、金属污染物等的污染物极大地影响了半导体元件的特性和成品率。因此，在半导体制造过程中，去除附着在基板表面的各种类型污染物的清洁过程正成为主要问题。在制造半导体元件的每个单元过程之前和之后执行该清洁过程。

同时，在清洁过程中可以使用包含高浓度臭氧的处理液。处理液用于处理基板，然后在从处理液中去除溶解臭氧后将其丢弃。

使用催化剂的溶解的臭氧去除方法可以用于去除处理液中的溶解臭氧。使用催化剂的溶解臭氧去除方法包括通过臭氧与活性炭直接反应而去除溶解臭氧的方法。可替代地，可以使用用二氧化锰(其为金属氧化物)去除溶解臭氧的方法。

然而，在使用催化剂的溶解臭氧去除方法的情况下，由于催化剂的使用寿命是固定的，因此需要定期更换催化剂。

发明内容

本发明构思的实施例提供一种用于有效地去除用于处理基板的处理液中的溶解臭氧的溶解臭氧去除单元、包括该溶解臭氧去除单元的基板处理装置以及一种基板处理方法。

本发明构思的实施例提供了一种用于显著减少臭氧去除时间的溶解臭氧去除单元，包括该溶解臭氧去除单元的基板处理装置以及一种基板处理方法。

本发明构思的实施例提供了一种用于从大量的高浓度臭氧水中快速且稳定地去除溶解臭氧的溶解臭氧去除单元，包括该溶解臭氧去除单元的基板处理装置以及一种基板处理方法。

本发明构思要解决的技术问题不限于上述问题，并且本发明构思所属领域的技术人员从以下描述中将清楚地理解本文中未提及的任何其他技术问题。

根据示例性实施例，一种用于去除包含在处理液中的溶解臭氧的溶解臭氧去除单元，包括：流体通道提供构件，该流体通道提供构件具有供处理液经过的流体通道；以及光源构件，该光源构件被安装在流体通道提供构件中并且向处理液供应紫外线。流体通道提供构件包括螺旋流体通道，该螺旋流体通道被构造为使得处理液在围绕光源构件螺旋移动的同时暴露于紫外线。

光源构件可拆卸地安装在位于流体通道提供构件的中间的接收空间中，从而不与处理液直接接触。

流体通道提供构件还可以包括：壳体，该壳体包括围绕光源构件的内圆筒以及同轴地设置在该内圆筒外部的外圆筒，使得螺旋流体通道被设置在内圆筒和外圆筒之间。

壳体还可以包括安装在外圆筒和内圆筒之间的螺旋叶片，并且可以通过将螺旋叶片的外径表面气密地联接到外圆筒的内径表面并且将螺旋叶片的内径表面气密地联接到内圆筒的外径表面来形成螺旋流体通道。

螺旋流体通道可以包括形成在内圆筒的外径表面上的螺旋槽或形成在外圆筒的内径表面上的螺旋槽。

壳体可以在其一端处敞开，以便连接到内圆筒的接收空间，并且光源构件可以包括灯管，该灯管通过壳体的敞开的一端位于内圆筒的接收空间中。

壳体可以由紫外线透射材料形成。