[发明专利]一种间隙光刻机构及其光刻方法

权利要求书

1.一种间隙光刻机构，其特征在于，包括掩膜架(2)，所述掩膜架(2)为两端开口的中空结构，所述掩膜架(2)的上端面用于放置掩膜版(1)，所述掩膜架(2)的下方设置有承片台(5)，所述承片台(5)的上端面用于放置柔性箔板(3)，且用于放置柔性箔板(3)的区域周围设置有若干限位柱(4)，限位柱(4)的上端面高出柔性箔板(3)的光刻胶面，所述承片台(5)能够进入所述掩膜架(2)内；

当所述承片台(5)进入所述掩膜架(2)内，且限位柱(4)的上端面与掩膜版(1)的药膜面接触时，掩膜版(1)的药膜面与柔性箔板(3)的光刻胶面之间具有间隙；

所述承片台(5)的下方设置有顶升机构(6)，所述顶升机构(6)用于顶升所述承片台(5)进入所述掩膜架(2)内，所述顶升机构(6)上设置有微压传感器(7)，所述微压传感器(7)用于测量限位柱(4)与掩膜版(1)之间的压力；

用于放置柔性箔板(3)的区域周围设置有三个限位柱(4)，其中一个限位柱(4)设置在区域一侧的中间位置，另外两个限位柱(4)分别设置在与区域一侧相邻的两侧位置；

若干所述限位柱(4)的上端面位于同一平面，每个所述限位柱(4)的上端面距离所述承片台(5)上端面的距离为50μm～200μm。

2.根据权利要求1所述的一种间隙光刻机构，其特征在于，每个所述限位柱(4)的上端面的平面度≤0.005mm。

3.根据权利要求1所述的一种间隙光刻机构，其特征在于，所述承片台(5)上用于放置柔性箔板(3)的区域内阵列开设有若干真空吸附微孔(8)。

4.根据权利要求1所述的一种间隙光刻机构，其特征在于，所述承片台(5)的平面度≤0.005mm。

5.根据权利要求1所述的一种间隙光刻机构，其特征在于，所述掩膜架(2)的上端面的平面度≤0.01mm。

6.根据权利要求1～5任一项所述的一种间隙光刻机构的光刻方法，其特征在于，将掩膜版(1)的药膜面向下贴附在掩膜架(2)的上端面；将涂覆好光刻胶的柔性箔板(3)贴附在承片台(5)上用于放置柔性箔板(3)的区域，柔性箔板(3)的光刻胶面向上；通过顶升机构(6)顶升承片台(5)进入掩膜架(2)内，限位柱(4)的上端面与掩膜版(1)的药膜面接触，当微压传感器(7)检测到测量限位柱(4)与掩膜版(1)之间的压力达到预设的压力值后，顶升机构(6)停止运动，进行光刻。

7.根据权利要求6所述的一种间隙光刻机构的光刻方法，其特征在于，通过真空吸附微孔(8)吸附柔性箔板(3)，使柔性箔板(3)平展的贴附在承片台(5)上。