[发明专利](甲基)丙烯酸酯化合物、聚合物、抗蚀剂材料及(甲基)丙烯酸酯化合物的制造方法

说明书

本发明提供与其他感光性树脂的相容性优异且可赋予聚合物高透明性的(甲基)丙烯酸酯化合物、聚合物、抗蚀剂材料及(甲基)丙烯酸酯化合物的制造方法。所述(甲基)丙烯酸酯化合物，是由下述通式(1)所表示。

技术领域

本发明涉及一种(甲基)丙烯酸酯化合物、聚合物、抗蚀剂材料及(甲基)丙烯酸酯化合物的制造方法。

背景技术

化学放大型感放射线性树脂组合物通过ArF准分子激光及KrF准分子激光等曝光光的照射，在曝光部中由感放射线性酸产生剂生成酸。通过以生成的酸为催化剂的反应，曝光部与未曝光部相对于显影液的溶解速度发生变化，在基板上形成抗蚀剂图案。

以往使用的聚羟基苯乙烯等具有芳香族环的树脂中，对ArF准分子激光的透明性不充分，因此在以ArF准分子激光为光源的情况下不能使用。因此，不具有芳香族环的丙烯酸系树脂受到关注。但是，丙烯酸系树脂有耐干式蚀刻性低的缺点。

相对于此，提出了兼具透明性与耐干式蚀刻性的丙烯酸系树脂。作为所述丙烯酸系树脂，例如在专利文献1中公开了酯部具有金刚烷骨架的单量体的聚合物。进而，作为所述丙烯酸系树脂，在专利文献2中示出了酯部具有金刚烷骨架的单量体与丙烯酸四氢吡喃酯的共聚物。

另一方面，在使用ArF准分子激光的工艺中，重要的是解析性良好地形成0.2μm以下的超微细图案。但是，在形成超微细图案的情况下，所述含金刚烷骨架的聚合物等与基板的密接性不足，存在产生图案倒塌的不良情况。

因此，提出了将专利文献3中公开的丙烯酸的3-氧代环己酯及专利文献4中公开的γ-丁内酯等具有含氧杂环基的丙烯酸酯作为结构单元而导入的组合物。导入了具有含氧杂环基的丙烯酸酯的丙烯酸系树脂在密接性的方面确认到改善。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开平4-39665号公报

[专利文献2]日本专利特开平5-265212号公报

[专利文献3]日本专利特开平5-346668号公报

[专利文献4]日本专利特开平7-181677号公报

[专利文献5]日本专利特开2002-145955号公报

发明内容

[发明所要解决的课题]

具有含氧杂环基的单量体具有极性非常高的特征，另一方面，具有金刚烷骨架的单量体具有极性非常低的特征。若将两种单量体进行共聚，则存在前者以前者、后者以后者进行均聚的倾向。其结果，不会成为无规聚合物而容易生成在分子间或分子内成为大的组成分布的聚合物。

若将如此般成为大的组成分布的聚合物用作光致抗蚀剂用树脂，则容易产生难以溶解于光致抗蚀剂用溶媒、以及在基板上旋涂时形成相分离结构而成为抗蚀剂图案的形成障碍等不良情况。另外，若将成为大的组成分布的聚合物用作光致抗蚀剂用树脂，则对显影液的溶解性会产生偏差，因此有时无法精度良好地形成微细的图案。

为了避免聚合时的所述问题，专利文献5中公开了在金刚烷骨架上加成极性取代基的化合物。但是，由于所述化合物的合成费功夫，因此合成成本变高。

本发明是鉴于所述实际情况而成，目的在于提供一种与其他感光性树脂的相容性优异且可赋予聚合物高透明性的(甲基)丙烯酸酯化合物、聚合物、抗蚀剂材料及(甲基)丙烯酸酯化合物的制造方法。

[解决课题的技术手段]

本发明的第一观点的(甲基)丙烯酸酯化合物

是由下述通式(1)所表示。

[化1]