[发明专利]显示装置、显示基板及其制造方法在审
申请号: | 201911327504.3 | 申请日: | 2019-12-20 |
公开(公告)号: | CN110970483A | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 代伟男;张帅;季云龙 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;G09F9/30 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 显示 及其 制造 方法 | ||
1.一种显示基板,其特征在于,包括:
柔性衬底,所述柔性衬底上形成有多个像素岛区、设置在相邻像素岛区之间的空区以及连接相邻像素岛区的连接桥区;其中,
至少部分所述空区的至少部分侧壁为斜面,所述斜面与所述柔性衬底设置像素单元一侧的表面之间的夹角为钝角。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述斜面为凹凸面结构。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述凹凸面结构为台阶状结构。
4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,各所述空区的至少部分侧壁为所述斜面。
5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述空区的侧壁均为所述斜面。
6.一种显示基板的制造方法,其特征在于,包括:
提供一柔性衬底;
在所述衬底上形成多个像素岛区、设置在相邻像素岛区之间的空区以及连接相邻像素岛区的连接桥区,使至少部分所述空区的至少部分侧壁为斜面,且使所述斜面与所述柔性衬底设置像素单元一侧的表面之间的夹角为钝角。
7.根据权利要求6所述的制造方法,其特征在于,在所述衬底上形成多个像素岛区、设置在相邻像素岛区之间的空区以及连接相邻像素岛区的连接桥区,使至少部分所述空区的至少部分侧壁为斜面,且使所述斜面与所述柔性衬底设置像素单元一侧的表面之间的夹角为钝角,包括:
在所述柔性衬底上形成光刻胶层,去除所述光刻胶层与预设空区位置对应部分的光刻胶,以在所述光刻胶层上形成预设特征尺寸的过孔;
通过所述过孔对所述柔性衬底进行刻蚀,在所述柔性衬底形成通孔;
减小所述过孔的的特征尺寸,通过特征尺寸减小后的所述过孔对所述柔性衬底进行刻蚀,以在所述通孔中形成台阶结构;重复该步骤,以形成具有斜面且所述斜面为台阶结构的空区。
8.根据权利要求6所述的制造方法,其特征在于,各所述空区的至少部分侧壁为所述斜面。
9.根据权利要求6所述的制造方法,其特征在于,所述空区的侧壁均为所述斜面。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-5所述的显示基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的