[发明专利]用以制造面板的无尘系统及方法在审
申请号: | 201911328436.2 | 申请日: | 2019-12-20 |
公开(公告)号: | CN111508880A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 高瑞恳;陈政欣 | 申请(专利权)人: | 创王光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L21/677 |
代理公司: | 北京天驰君泰律师事务所 11592 | 代理人: | 孟锐 |
地址: | 中国台湾新竹县30*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用以 制造 面板 系统 方法 | ||
一种用以制造面板的方法以及用以制造面板的无尘系统。所述方法包括数个操作。于一第一机台中在一基板上进行一第一操作。于一第二机台中在该基板上进行一第二操作。在该第一机台及该第二机台间输送该基板,其中该基板系在一微环境中由一面板载运装置输送。
技术领域
(相关申请案说明)本申请主张2018年12月28日提出的美国专利申请案No.16/235,737的优先权,此处将其整体纳入作为参照。
本揭示内容关于一种无尘系统以及利用其制造面板的方法。
背景技术
显示面板在消费性电子、娱乐、军事与其他领域的产品中有许多重要的应用。举例来说,光刻是对面板效能有重大影响的关键步骤。为了提供较高的解析度,面板的像素间距逐渐缩小,这使得制造环境中的微小粒子包括微米级粒子,都可能污染面板基板并导致面板瑕疵。因此,当面板基板暴露于微米级粒子下时,会使产率降低。
发明内容
由一态样观察,本揭示内容提供一种用以制造一面板的方法。所述方法包括数个步骤。于一第一机台中在一基板上进行一第一操作。于一第二机台中在该基板上进行一第二操作。在该第一机台及该第二机台间输送该基板,其中该基板系在一微环境中由一面板载运装置输送。
于本揭示内容一实施方式中,所述方法还包括:过滤器欲填充于所述微环境中的气体。
由另一态样观察,本揭示内容提供一种用于面板制造的无尘系统。所述无尘系统包括:一舱室、复数个机台、一空气泵及一过滤器。所述舱室界定一微环境。这些机台用于进行不同的制程操作,且各该机台有一装载埠连接于舱室的微环境。空气泵用以抽送气体进出微环境。过滤器位于微环境的气体入口,以过滤微环境中的气体。
由另一态样观察,本揭示内容提供一种用以制造一面板的无尘系统。所述无尘系统包括:复数个机台及一面板载运装置。这些机台用于进行不同的制程操作,且各该机台有一装载埠。面板载运装置输送在一微环境中于机台间输送一基板,其中面板载运装置包含一推车室、一气体循环系统及一过滤器。所述推车室在面板载运装置上界定出该微环境。所述气体循环系统用以抽送气体进出微环境。过滤器用以过滤微环境中的气体。
附图说明
图1的流程图绘示根据本揭示内容某些实施方式,用以制造面板的方法的多个步骤。
图2、3、4及5为根据本揭示内容不同实施方式,用以制造面板的无尘系统的概要图式。
图6为图5所示的无尘系统的一部分的剖面图。
图7为根据本揭示内容某些实施方式,用以制造面板的无尘系统的概要图式。
图8A、8B及8C为根据本揭示内容某些实施方式,由不同方向观察的面板载运装置的概要图式。
图9A、9B及9C为根据本揭示内容某些实施方式,由不同方向观察的面板载运装置的概要图式。
图10为根据本揭示内容某些实施方式的面板载运装置的概要图式。
图11A为根据本揭示内容某些实施方式的面板载运装置的概要图式。
图11B为根据本揭示内容某些实施方式,图11A所示的面板载运装置的气体循环的概要图式。
图12A、12B及12C为根据本揭示内容某些实施方式,连接至一机台的面板载运装置的一或多种操作的概要图式。
图13及14为根据本揭示内容不同实施方式,用以制造面板的无尘系统的概要图式。
图15为根据本揭示内容某些实施方式,由一机台输送基板的面板载运装置的一或多种操作的概要图式。
具体实施方式
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造