[发明专利]一种光罩及图像校准方法

权利要求书

1.一种光罩，所述光罩包括曝光区和非曝光区，其特征在于，所述非曝光区内的特定位置预先设置有一标记图案，光罩缺陷检查台通过扫描设置在特定位置的所述标记图案来替代原来的3-5个图形进行图像校准；

所述标记图案包括亮场图案和暗场图案，所述亮场图案和所述暗场图案分别包括多个具有不同关键尺寸的标准图形，且所述标准图形中的最小关键尺寸均小于所述曝光区中电路图形的最小关键尺寸。

2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述标准图形包括线、孔以及线间距中的一项或多项。

3.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，同类型的所述标准图形的关键尺寸分别按预定方向依次减小。

4.根据权利要求3所述的光罩，其特征在于，相邻两个同类型的所述标准图形中，较小的所述标准图形的关键尺寸比较大的所述标准图形的关键尺寸小5-20%。

5.一种图像校准方法，应用于光罩缺陷检查台，其特征在于，于待检测光罩的非曝光区内的特定位置预先设置一标记图案，光罩缺陷检查台通过扫描设置在特定位置的所述标记图案来替代原来的3-5个图形进行图像校准；

所述标记图案包括亮场图案和暗场图案，所述亮场图案和所述暗场图案分别包括多个具有不同关键尺寸的标准图形，且所述标准图形中的最小关键尺寸均小于所述待检测光罩曝光区中电路图形的最小关键尺寸；

所述光罩缺陷检查台通过扫描所述标记图案进行图像校准。

6.根据权利要求5所述的图像校准方法，其特征在于，所述标准图形包括线、孔以及线间距中的一项或多项。

7.根据权利要求5所述的图像校准方法，其特征在于，同类型的所述标准图形的关键尺寸分别按预定方向依次减小。

8.根据权利要求7所述的图像校准方法，其特征在于，相邻两个同类型的所述标准图形中，较小的所述标准图形的关键尺寸比较大的所述标准图形的关键尺寸小5-20%。

9.根据权利要求5所述的图像校准方法，其特征在于，所述通过扫描所述标记图案进行图像校准的过程具体包括：

步骤S1，所述光罩缺陷检查台根据预先设定的坐标定位所述标记图案；

步骤S2，所述光罩缺陷检查台通过扫描所述标记图案中的所述标准图形进行图像校准。

10.一种针对不同工艺节点光罩的设计方法，其特征在于，针对第一工艺节点设计如权利要求1-5任意一项所记载的光罩，以第一工艺节点光罩的标记图案中标准图形的最小关键尺寸为基准，选择比例尺进行缩放，以获得其它工艺节点的标记图案中标准图形的最小关键尺寸，其中，所述选择比例尺包括使得各工艺节点的标记图案中标准图形的最小关键尺寸小于各工艺节点的电路图形最小关键尺寸。