[发明专利]一种纳米银线导电膜及其作为触控传感器电极层的制作方法有效
申请号: | 201911340119.2 | 申请日: | 2019-12-23 |
公开(公告)号: | CN111028987B | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 吕鹏;张梓晗;任小勇;刘威;张运奇 | 申请(专利权)人: | 合肥微晶材料科技有限公司 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人: | 卢敏 |
地址: | 230088 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 导电 及其 作为 传感器 电极 制作方法 | ||
本发明公开了一种纳米银线导电膜及其作为触控传感器电极层的制作方法,是在纳米银线导电层的上下皆设置OC光阻剂层,既使其可以通过简单的黄光工艺进行电极图案化加工成触控传感器电极层,又可在电极图案化后作为纳米银线导电层的保护层。本发明触控传感器电极层的制作方法具有操作简单、精密度高、良率高、效率快的优势。
技术领域
本发明属于触摸屏领域,具体涉及一种纳米银线导电膜及其作为触控传感器电极层的制作方法。
背景技术
纳米银线材料是目前大尺寸触控的最佳解决方案,但由于纳米银线本身雾度较高、色度偏黄等光学因素,极大的限制了纳米银线在中小尺寸触摸屏上的运用。然而,近年来纳米银线取得飞速发展,纳米银线本身雾度高、色度偏黄的问题得到大幅度改善,使得纳米银线未来有极大的可能在中小尺寸触摸屏上占有一席之地。
相较于大尺寸触摸屏,中小尺寸触摸屏对触控灵敏度、线性度及响应速度均有更高要求。通道更加密集,要求触摸屏的制作更加精密。但目前主流的纳米银线触控电极层的加工方式为激光干刻,干刻直径在25~40μm之间,满足不了更加精密的触摸要求。而更为精密且成熟的黄光工艺针对的是ITO触控电极材料而非纳米银线,配套的光阻剂、纳米银线蚀刻液等尚未完全成熟,而且工艺较为繁琐、成本较高。
发明内容
基于上述现有技术所存在的不足之处,本发明提供了一种纳米银线导电膜及其作为触控传感器电极层的制作方法,旨在提高纳米银线触摸屏制备的精密度,使其能在中小尺寸触摸屏中得以应用。
本发明为实现发明目的,采用如下技术方案:
本发明首先公开了一种纳米银线导电膜,其特点在于:所述纳米银线导电膜是在透明衬底上依次设置有第一OC光阻剂层、纳米银线导电层、第二OC光阻剂层和离型膜。
进一步地,所述第一OC光阻剂层和所述第二OC光阻剂层所用OC光阻剂溶液的配方体系包括如下质量百分比的各原料:
更进一步地,所述溶剂是由丁酮、乙酸乙酯和乙二醇按质量比1:1:1混合而成。
进一步地,第一OC光阻剂层的厚度为1.0-1.5μm,所述纳米银线导电层的厚度为100-300nm,所述第二OC光阻剂层的厚度为1.5-2.5μm。
本发明还公开了一种触控传感器电极层的制作方法,其包括如下步骤:
步骤1、利用上述的纳米银线导电膜,以离型膜朝上,使用触控传感器电极层所需的掩膜版进行曝光,曝光波长为340~380nm、能量为100~300mJ/cm2、时间30~60s;
步骤2、将曝光后的纳米银线导电膜撕离离型膜后,在浓度为0.6-1.5mol/L的KOH显影液中浸泡1~3min,使非曝光区域的第一OC光阻剂层和第二OC光阻剂层同时被显影洗掉,对应区域的中间纳米银线导电层失去支撑同时被洗掉;
步骤3、显影后,对纳米银线导电膜进行清洗、烘干,曝光区域的第一OC光阻剂层、纳米银线导电层和第二OC光阻剂层被保留,形成电极图案化的纳米银线导电膜,用于触控传感器电极层;
步骤4、对电极图案化的纳米银线导电膜进行后烘和/或在氮气保护下进行UV固化,以进一步提高第一OC光阻剂层和第二OC光阻剂层的保护功能,即完成处理。
进一步地,步骤4中,所述后烘是在120~200℃下烘烤5min。
进一步地,步骤4中,所述UV固化是以800~1200mJ/cm2的能量固化5-7min。
本发明的有益效果体现在:
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