[发明专利]基板对位装置及方法、掩膜板、晶圆基板

权利要求书

1.一种基板对位装置，其特征在于，包括：

掩膜板调节部件，用于承载掩膜板，并调整所述掩膜板的位置；所述掩膜板上设置有镂空结构的第一对位标记；

基板调节部件，用于承载待对位基板，并调整所述待对位基板的位置；所述待对位基板上设置有镂空结构或凹槽结构的第二对位标记，且所述第一对位标记在所述待对位基板上的正投影能够覆盖所述第二对位标记；所述待对位基板具有相对的第一侧和第二侧，在进行对位的过程中，所述掩膜板位于所述待对位基板的第一侧；

红外光源，用于发出红外光；在进行对位的过程中，所述红外光从所述掩膜板的远离所述待对位基板的一侧入射，经所述第一对位标记，投射至所述待对位基板；

图像传感器，设置于所述待对位基板的第二侧，用于获取所述待对位基板的图像。

2.根据权利要求1所述的基板对位装置，其特征在于，所述红外光源设置于所述待对位基板的第二侧；

所述基板对位装置还包括设置于所述掩膜板的远离所述待对位基板的一侧的反射部件，所述反射部件用于，将所述红外光源发出的红外光反射至所述掩膜板。

3.根据权利要求2所述的基板对位装置，其特征在于，所述反射部件包括第一反射面和第二反射面；

所述第一反射面与所述红外光源相对，所述第一反射面用于将所述红外光源发出的红外光反射至所述第二反射面；

所述第二反射面与所述掩膜板相对，所述第二反射面用于将所述第一反射面反射出来的红外光反射至所述掩膜板。

4.根据权利要求1所述的基板对位装置，其特征在于，所述红外光源设置于所述待对位基板的第一侧。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板对位装置，其特征在于，所述基板对位装置还包括调节控制部件和处理器；

所述处理器与所述调节控制部件，以及所述图像传感器耦接，用于从所述图像传感器中获取所述待对位基板的图像，分析所述第一对位标记与所述第二对位标记之间的位置偏差，根据所述位置偏差，向所述调节控制部件发送调节指令；

所述调节控制部件与所述掩膜板调节部件和所述基板调节部件连接，用于根据所接收的调节指令，控制所述掩膜板调节部件和/或所述基板调节部件进行移动，以使所述第一对位标记在所述待对位基板上的正投影覆盖所述第二对位标记。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的基板对位装置，其特征在于，所述掩膜板上设置有至少两个第一对位标记，所述待对位基板上设置有与所述至少两个第一对位标记一一对应的至少两个第二对位标记；

所述基板对位装置包括至少两组对位单元，每组对位单元包括：一个所述红外光源和一个所述图像传感器；所述至少两组对位单元与所述至少两个第一对位标记一一对应。

7.一种掩膜板，其特征在于，应用于如权利要求1～6中任一项所述的基板对位装置；所述掩膜板包括：

掩膜板主体；

设置于所述掩膜板主体上的镂空的第一对位标记；所述第一对位标记包括图形部分和多个第一对位基准部分，所述多个第一对位基准部分位于所述图形部分的周围；沿垂直于每个第一对位基准部分的宽度延伸方向的方向，所述图形部分的尺寸大于该第一对位基准部分的尺寸。

8.根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述多个第一对位基准部分中至少有两个第一对位基准部分的长度延伸方向相互垂直。

9.根据权利要求7或8所述的掩膜板，其特征在于，所述图形部分的形状为圆形、椭圆形、长方形或正多边形中的至少一种；

所述多个第一对位基准部分沿所述图形部分的边缘等间隔布置。