[发明专利]基板对位装置及方法、掩膜板、晶圆基板

说明书

本公开提供了一种基板对位装置及方法、掩膜板、晶圆基板，涉及显示技术领域，用于解决光学对位方式无法实现非透明基板与掩膜板对位的问题。其中基板对位装置包括：掩膜板调节部件，承载并调整掩膜板的位置，掩膜板上设置有镂空结构的第一对位标记；基板调节部件，承载并调整待对位基板的位置，待对位基板上设置有镂空结构或凹槽结构的第二对位标记，第一对位标记的正投影能够覆盖第二对位标记，掩膜板位于待对位基板第一侧；红外光源，用于发出红外光，从掩膜板远离待对位基板的一侧入射，经第一对位标记投射至待对位基板；图像传感器，设置于待对位基板第二侧，获取待对位基板的图像。该基板对位装置用于非透明基板与掩膜板对位。

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板对位装置及方法、掩膜板、晶圆基板。

背景技术

在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板的制程中，需要通过蒸镀等工艺，在待蒸镀基板上形成有机发光材料层。在蒸镀之前，待蒸镀基板需要先与掩膜板对位。现有技术中，待蒸镀基板为透明的玻璃基板，因此可通过光学对位方式，利用图像采集装置(例如，光学摄像头等)透过玻璃基板采集掩膜板上对位标记的图像，而后通过调整待蒸镀基板和掩膜板之间的相对位置，使待蒸镀基板上的对位标记与掩膜板上的对位标记的对位，实现待蒸镀基板与掩膜板的对位。该种光学对位方式操作简单，且对位精度较高。

然而，对于非透明的待蒸镀基板，例如晶圆(Wafer)基板，图像采集装置无法透过非透明的待蒸镀基板采集到掩膜板的对位标记的图像，因此通过如上的光学对位方式，无法实现待蒸镀基板与掩膜板的对位。

发明内容

针对上述现有技术中的问题，本公开的实施例提供一种基板对位装置及方法、掩膜板、晶圆基板，以解决现有技术中的光学对位方式无法实现非透明的基板与掩膜板的对位的问题。

为达到上述目的，本公开的实施例采用如下技术方案：

第一方面，本公开的实施例提供了一种基板对位装置，包括：掩膜板调节部件，用于承载掩膜板，并调整所述掩膜板的位置，所述掩膜板上设置有镂空结构的第一对位标记；基板调节部件，用于承载待对位基板，并调整所述待对位基板的位置，所述待对位基板上设置有镂空结构或凹槽结构的第二对位标记，且所述第一对位标记在所述待对位基板上的正投影能够覆盖所述第二对位标记，所述待对位基板具有相对的第一侧和第二侧，在进行对位的过程中，所述掩膜板位于所述待对位基板的第一侧；红外光源，用于发出红外光，在进行对位的过程中，所述红外光从所述掩膜板的远离所述待对位基板的一侧入射，经所述第一对位标记，投射至所述待对位基板；图像传感器，设置于所述待对位基板的第二侧，用于获取所述待对位基板的图像。

在使用上述基板对位装置对掩膜板和待对位基板进行对位的过程中，掩膜板上第一对位标记以外的部分为金属材质，能够阻挡红外光穿透，红外光能够从镂空的第一对位标记处穿过并投射至另一侧的待对位基板，继而在待对位基板的第二侧的表面上形成红外投影，该红外投影的轮廓与第一对位标记相对应。调整待对位基板和/或掩膜板的位置，使第二对位标记至少部分处于红外投影范围内，由于待对位基板的与第二对位标记对应的部分的厚度与其周围的部分的厚度不同，从而使红外投影内形成明暗程度不同的部分。这样，采集待对位基板的第二侧的表面的图像，通过图像中红外投影中明暗程度不同的各部分之间的位置关系，或通过图像中红外投影与第二对位标记的位于待对位基板的第二侧的表面上的开口的位置关系，能够确定第一对位标记和第二对位标记之间的位置偏差，并据此调整掩膜板与待对位基板的相对位置，使第二对位标记完全处于红外投影的范围内，从而实现掩膜板和不透明的待对位基板的准确对位。

基于上述技术方案，在一些实施例中，所述红外光源设置于所述待对位基板的第二侧；所述基板对位装置还包括设置于所述掩膜板的远离所述待对位基板的一侧的反射部件，所述反射部件用于，将所述红外光源发出的红外光反射至所述掩膜板。